娄艳辉

作品数：2被引量：2H指数：1
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供职机构：河南师范大学物理系更多>>
发文主题：射频辉光放电质谱测量等离子体纳米硅薄膜N更多>>
发文领域：核科学技术理学更多>>
发文期刊：《核聚变与等离子体物理》《功能材料》更多>>
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用SiCl4/H2沉积纳米晶硅薄膜过程中氢稀释量对SiCln(n=0～2)密度的影响
《功能材料》2008年第1期12-15,共4页娄艳辉 王照奎 林揆训 林璇英 
国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(G2000028208)
用质谱、朗缪尔探针诊断技术研究了氢稀释的SiCl4作为源气体,用等离子体增强化学气相方法进行纳米晶硅薄膜的生长。进一步研究了氢稀释比率对SiCl4等离子体中SiCln（n=0-2）基团浓度的影响。等离子体中,平均电子能量和电子密度分别随着...
关键词：氢稀释 纳米硅薄膜 SiCln(n=0~2)基团 
SiCl_4等离子体中的中性基团质谱测量被引量：2
《核聚变与等离子体物理》2006年第3期252-256,共5页王照奎 林揆训 娄艳辉 林璇英 祝祖送 
国家重点基础研究发展规划项目(G2000028208)
设计了一个取样位置能在射频辉光放电等离子体电极间自由移动的取样装置，用质谱计测量了SiCl4等离子体的离子信号.提出了一种线性拟合的方法用于计算SiCl4等离子体的消耗率,利用测量的离子信号，计算出了SiCl4等离子体中SiCln（n=0～2...
关键词：射频辉光放电 中性基团 质谱测量 可移动取样装置 
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