朱宏生

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供职机构：华中师范大学物理科学与技术学院更多>>
发文主题：磁光磁光性能磁光记录非晶薄膜矫顽力更多>>
发文领域：理学一般工业技术电气工程更多>>
发文期刊：《功能材料》《信息记录材料》更多>>
所获基金：国家大学生创新性实验计划项目国家自然科学基金更多>>
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溅射工艺对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响
《功能材料》2009年第11期1802-1804,共3页郭继花 黄致新 崔增丽 杨磊 邵剑波 朱宏生 章平 
国家自然科学基金资助项目(60490291);湖北省教育资助项目(D20086002)
采用射频磁控溅射法在玻璃基片上成功制得了GdTbFeCo非晶垂直磁化膜,研究了溅射工艺对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响。测量结果表明,基片与靶间距为72mm,溅射功率为75W,溅射气压为0.5Pa,薄膜厚度为120nm时,GdTbFeCo薄膜垂直方向矫顽力为47...
关键词：射频磁控溅射 GdTbFeCo 磁光性能 溅射工艺 
膜厚对GdTbFeCo非晶薄膜磁光性能的影响
《信息记录材料》2009年第3期42-44,共3页朱宏生 冯小源 朱洪杰 林玉 郭继花 黄致新 
国家大学生创新性实验计划项目资助
采用射频磁控溅射法在玻璃基片上制备了GdTbFeCo非晶薄膜,通过调节溅射时间制备出了不同厚度的薄膜,并研究了膜厚对薄膜磁光性能的影响。磁光特性测试仪的测试结果表明:溅射功率为75W,溅射气压为0.5Pa,薄膜厚度为120nm时,可以使GdTbFeC...
关键词：薄膜 磁光记录 克尔角 矫顽力 
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