云南高校图书馆联盟文献共享服务平台- 吕凡

吕凡: 作品数：1被引量：2H指数：1; 导出分析报告; 供职机构：中国科学技术大学物理学院中国科学院量子信息重点实验室更多>>; 发文主题：XEF2XEFSIO干法刻蚀硅刻蚀更多>>; 发文领域：电子电信更多>>; 发文期刊：《中国科学技术大学学报》更多>>; 所获基金：中国科学技术大学青年基金国家大科学工程国家自然科学基金更多>>

检索结果分析

共条记录，以下是1-1

全选清除导出

视图：

排序：

XeF_2对SiO_2/Si的干法刻蚀被引量：2: 《中国科学技术大学学报》2009年第6期603-607,共5页尉伟吴晓伟吕凡肖云峰付绍军裴元吉韩正甫; 国家大科学工程(NSRL二期工程);国家自然科学基金(60537020;60121503);中国科学技术大学青年基金(KA2310000007)资助; XeF2是一种可以在常温下与硅发生反应的气体,可用作对硅进行干法刻蚀的工作气体,其对硅刻蚀特性呈现各向同性.研制了一个使用脉冲法对二氧化硅/硅体系进行XeF2刻蚀的系统,刻蚀系统简单且操作容易.利用该系统成功地刻蚀出"蘑菇状"的SiO2...; 关键词：XEF2 硅刻蚀各向同性干法刻蚀光学微腔