先进掩膜帮助延长光学光刻的寿命  

作　　者：Aaron Hand 

出　　处：《集成电路应用》2007年第11期24-28,共5页Application of IC

摘　　要：作为光刻技术的"替罪羊",光刻掩膜版已成为光成像途径中越来越重要的一部分。随着改善的光学邻近修正(OPC)和其它分辨率增强技术(RET)的发展——包括双重图形技术的前景——掩膜版将会是保持光学光刻在商业上的地位的关键。

关 键 词：光学光刻 掩膜版 分辨率增强技术 寿命 光刻技术 图形技术 光成像 RET 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学] TP212[自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]