无掩膜腐蚀与伺服型电容式微加速度计  

Maskless etching and server capacitance micro-accelerometer

作　　者：袁明权[1] 彭勃[1] 赵龙[1] 武蕊[1] 唐海林[1] 席仕伟[1] 谭刚[1] 

机构地区：[1]中国工程物理研究院电子工程研究所,四川绵阳621900

出　　处：《信息与电子工程》2009年第5期432-434,共3页information and electronic engineering

基　　金：中国工程物理研究院科学技术发展基金重点资助项目(2007A05001)

摘　　要：为了解决"三明治"这类微器件制作的深窄槽结构成型问题,运用无掩膜湿法腐蚀技术,成型悬臂梁雏形后再成型质量块,较好地实现了悬臂梁与质量块同时准确成型,研制出±70 g和±5 g两种不同量程的微加速度计。样品测试表明,利用这项技术所制作的微加速度计相对精度皆优于1×10–4。其中,±70 g量程的残差可控制在7 mg以内,非线性可达0.02%;±5 g量程的残差在0.4 mg左右。Processing deep-narrow groove is the key of sandwich micro-device process. With the maskless wet chemical etching, the cantilever rudiment and the mass were made, and the structure of sandwich micro-accelerometer was manufactured accurately. Two kinds of micro-accelerometer were successfully fabricated with ± 70 g/± 5 g full-scale range. Initial testing showed ： relative precision less than 1 × 10^-4, residual error 0.4 mg with ± 5 g full-scale range, nonlinearity 0.02% and residual error 7 mg with ± 70 gfull-scale range.

关 键 词：微电子机械系统 微加速度计 无掩膜腐蚀 氧化 微机械加工 残差 

分 类 号：TH824.4[机械工程—仪器科学与技术]