在19.5nm处高反在30.4nm处抑制的双功能薄膜  

Dual-functional multilayer for high-reflectivity at 19.5 nm and low-reflectivity at 30.4 nm

作　　者：蒋励[1,2] 王晓强[1,2] 谭默言[1] 黄秋实[1] 李浩川[1] 周斯卡[1] 朱京涛[1,2] 王占山[1,2] 

机构地区：[1]同济大学物理系,精密光学工程技术研究所,上海200092 [2]上海市特殊人工微结构材料与技术重点实验室,上海200092

出　　处：《强激光与粒子束》2011年第5期1299-1302,共4页High Power Laser and Particle Beams

基　　金：国家自然科学基金项目(10825521);上海市科委资助项目(09XD1404000);科技部国际合作项目(2008DFA01920)

摘　　要：研究了极紫外波段的双功能光学元件。采用周期膜叠加的思想,运用遗传方法优化设计了在19.5 nm处高反,在30.4 nm处抑制的双功能多层膜。采用磁控溅射技术制备了多层膜,利用X射线衍射仪测试了多层膜的结构,在国家同步辐射实验室测试了双功能多层膜的反射特性。结果表明:制备出的双功能膜性能与设计相符,在入射角13,°19.5 nm处的反射率达到33.3%,接近传统的19.5 nm周期高反膜的反射率,并且在30.4 nm附近将反射率由1.1%降到9.6×10-4。A dual-functional extreme ultraviolet（EUV） multilayer（ML） mirror was designed for high-reflectivity at 19.5 nm（Fe Ⅻ line） and low-reflectivity at 30.4 nm（He Ⅱ line）.The design based on genetic algorithm（GA） utilized a stack composed of two periodic multilayers： a bottom multilayer for high reflectivity at 19.5 nm,and a top multilayer for low-reflectivity at 30.4 nm.The multilayer mirror was prepared by direct current magnetron sputtering,and characterized by grazing-incident X-ray diffraction（XRD） and synchrotron radiation（SR）.The experiment results show that the dual-functional multilayer achieves the reflectivity of 33.3% at 19.5 nm and 9.6×10^-4 at 30.4 nm at incident angle of 13°.

关 键 词：双功能 多层膜 极紫外 直流磁控溅射 同步辐射 

分 类 号：O434.1[机械工程—光学工程]