深刻蚀的利器——ICP  

作　　者：陈浩 朱桂枫 等 

机构地区：[1]镭社半导体设备，上海200000

出　　处：《集成电路应用》2002年第6期48-51,共4页Application of IC

关 键 词：深刻蚀 ICP 等离子刻蚀 干法刻蚀 硅 二氧化硅 半导体集成电路 

分 类 号：TN405.98[电子电信—微电子学与固体电子学]