专利视角看光刻机技术应用  

作　　者：程小梅[1] 尹春梅 

机构地区：[1]国家知识产权局专利局专利审查协作北京中心

出　　处：《中国科技信息》2024年第19期42-44,共3页China Science and Technology Information

摘　　要：光刻机是半导体制造过程中的核心设备之一,它包括光源、掩模版、光学系统、工件台等关键组件。光刻机的设计和制造难度极高,需要精确控制光源波长、光学系统的数值孔径、工件台的定位精度等,以实现高精度的图案转移。随着技术的发展,光刻机也在不断进步,例如从传统的紫外光刻技术发展到极紫外光刻(EUV)技术,以支持更小特征尺寸的集成电路生产。光刻机是一种用于微电子芯片制造中的关键设备,它通过光刻技术将芯片设计图案投影到硅片表面,从而实现微小的图案化制造。光刻机的发展经历了从简单到复杂、从粗糙到精细的演变过程,为现代微电子行业的发展提供了重要支持。

关 键 词：光刻机 微电子芯片 半导体制造 极紫外光刻 光刻技术 数值孔径 工件台 集成电路生产 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学] G255.53[文化科学—图书馆学]