迎接亚100nm的挑战  

作　　者：本刊编辑部 

出　　处：《电子工业专用设备》2003年第5期1-3,83,共4页Equipment for Electronic Products Manufacturing

关 键 词：光刻技术 光学邻近效应校正 半导体 分辨力增强技 掩模制造 晶体管 介电率 离子注入 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]