自由空间用微光学元件  

作　　者：杨妹清 

出　　处：《光机电信息》1995年第3期5-9,共5页OME Information

摘　　要：众所周知，采用碱性湿刻液，尤其是氢化钾(KOH)溶液的(110)硅片各向异性刻蚀，作为一种加工手段，可获得其它方式难以获得的垂直且高纵横比形状。同时，其刻蚀侧面，即(111)晶面，可达到非常平滑的程度。新制作的具有上述特点的硅板，由于其侧面为垂直的镜面，且作为微型元件具有较大的面积(100μm^2以上)因此，人们期待能作为自由空间用微光学元件、尤其是作为微反射镜和光学平面应用。

关 键 词：微光学元件 自由空间 微反射镜 硅片 各向异性刻蚀 滤光片 干涉仪 

分 类 号：TN25[电子电信—物理电子学]