陕西省教育厅科研计划项目(12JK0469)

作品数：5被引量：13H指数：3
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相关作者：陈智利刘卫国李瑞张锦更多>>
相关机构：西安电子科技大学西安工业大学更多>>
相关期刊：《光学学报》《红外与激光工程》《光子学报》《真空科学与技术学报》更多>>
相关主题：表面形貌单晶硅低能RMS纳米制造技术更多>>
相关领域：理学电子电信更多>>
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低能离子束诱导Ag表面纳米金字塔微结构被引量：3
《光子学报》2014年第1期82-86,共5页陈智利 刘卫国 张锦 王蒙皎 
欧盟第七科技框架玛丽居里计划项目(No.247644);国防基础科研计划(No.A0920110016);陕西省教育厅科学研究项目(No.12JK0469);西安工业大学校长基金(No.XAGDXJJ1002)资助
利用离子柬溅射诱导实验方法，在单晶Si（100）基底上辅助沉积银膜，研究了低能Ar＋离子束30。入射时，不同离子束能量和束流密度以及基底温度对Ag纳米结构的影响．结果表明：在较低基底温度下（32～100℃）辅助沉积银膜，膜层表面会呈...
关键词：微纳米制造技术 低能离子束刻蚀 自组装纳米结构 离子束辅助 银金字塔微结构 
不同离子束参数诱导单晶硅纳米微结构与光学性能被引量：7
《红外与激光工程》2013年第9期2490-2495,共6页陈智利 刘卫国 
国防基础科研计划(A0920110016);陕西省教育厅科学研究项目(12JK0469);欧盟第七科技框架玛丽居里计划(247644);西安工业大学校长基金(XAGDXJJ1002)
使用微波回旋共振离子源，研究了低能Ar＋离子束正入射时不同离子柬能量和束流密度对单晶硅（100）表面的刻蚀效果及光学性能。结果表明，当离子柬能量为1000eV，束流密度为88-310μA／cm2时，样品表面出现自组装纳米点状结构，且随着...
关键词：低能离子束刻蚀 自组织纳米结构 表面形貌 表面粗糙度(RMS) 光学透过率 
低能斜入射离子束诱导单晶硅纳米结构与光学性能研究被引量：2
《真空科学与技术学报》2013年第8期826-831,共6页陈智利 刘卫国 
陕西省教育厅科学研究项目(12JK0469);广东省科技厅高新区发展引导专顶(2011B010700101);欧盟第七科技框架玛丽居里计划项目(247644);西安工业大学校长基金项目(XAGDXJJ1002)
为了研究低能Ar＋离子束在不同入射角度下对单晶硅表面的刻蚀效果及光学性能,使用微波回旋共振离子源,对单晶Si（100）表面进行刻蚀,采用原子力显微镜、非接触式表面测量仪和傅里叶变换红外光谱仪对刻蚀后硅片的表面形貌、粗糙度和光学...
关键词：低能离子束刻蚀 自组织纳米结构 表面形貌 表面粗糙度 光学透过率 
低能离子束诱导单晶硅点状纳米结构与光学性能研究被引量：5
《光学学报》2013年第9期237-242,共6页陈智利 刘卫国 
欧盟第七科技框架玛丽居里计划项目(247644);陕西省教育厅科学研究项目(12JK0469);广东省科技厅高新区发展引导专项(2011B010700101);西安工业大学校长基金(XAGDXJJ1002)
使用微波回旋共振离子源,研究了低能Ar+束在不同入射角度下对旋转单晶硅(100)表面的刻蚀效果及其光学性能。结果表明:样品旋转、离子束能量为1000eV、束流密度为265μA/cm2、刻蚀时间为60min时,在不同入射角度下,刻蚀后的样品表面可形...
关键词：表面光学 微纳米制造技术 自组织纳米结构 低能离子束刻蚀 表面形貌 光学透射率 
低能离子束刻蚀单晶硅表面形貌与粗糙度的研究被引量：4
《西安工业大学学报》2012年第6期443-446,450,共5页陈智利 李瑞 刘卫国 
13115工程中心建设项目(2010ZDGC-06);陕西省教育厅科学研究项目(12JK0469);西安工业大学校长基金(XAGDXJJ1002)
研究了低能Ar+离子束对单晶硅表面的刻蚀效果.使用自制的冷阴极离子源,通过控制离子束的入射能量和刻蚀时间等因素,对单晶硅(100)表面进行刻蚀,采用原子力显微镜(AFM)和非接触式表面测量仪对刻蚀后硅片的表面形貌以及表面粗糙度(RMS)进...
关键词：低能离子束刻蚀 自组织纳米结构 表面形貌 表面粗糙度(RMS) 
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