等离子体淀积

作品数：10被引量：6H指数：2
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等离子体淀积氮化硅的研究进展
《微电子学与计算机》1992年第8期7-9,共3页许春芳 
国家自然科学基金
介绍了等离子体淀积氮化硅薄膜的最新研究进展,包括薄膜的生长工艺、淀积机理、应用及膜中氢的分析。
关键词：氮化硅 等离子体 淀积 
等离子体淀积二氧化硅的抗电特性被引量：2
《微电子学与计算机》1992年第7期14-16,20,共4页许春芳 范焕章 邵家瑜 
上海市科委资助
文章报道了等离子体二氧化硅的抗电特性研究,并指出生长温度和退火条件对抗电特性有直接影响。
关键词：等离子体淀积 二氧化硅 抗电特性 
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