等离子体密度

作品数:169被引量:264H指数:7
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相关机构:东京毅力科创株式会社中国科学院中国科学院等离子体物理研究所中国科学技术大学更多>>
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Ti6Al4V表面增强CrN和TiN薄膜被引量:3
《表面技术》2023年第7期444-454,共11页司彪 时晓光 孙琳凡 杜峰 张开策 周艳文 
国家自然科学基金(51972155,52271056);辽宁省教育厅项目基金(LJKZ0278,LJKZ0306);海洋工程金属材料装备及应用国家重点实验室项目(HGSKL-UST LN(2020-05))。
目的研究表面增强氮化铬(CrN)和氮化钛(TiN)薄膜与Ti6Al4V(TC4)基体的适应性。方法采用热丝增强等离子体磁控溅射技术,通过改变热丝放电电流,在TC4合金表面制备CrN、TiN薄膜。采用扫描电子显微镜、X–射线衍射仪、纳米压痕仪、洛氏硬度...
关键词:TC4钛合金 等离子体增强磁控溅射 等离子体密度 氮化物薄膜 低载荷摩擦 
等离子体密度调控CrN薄膜结构改性Ti6Al4V双极板被引量:2
《表面技术》2022年第4期194-201,210,共9页杜峰 周艳文 王英涵 方方 张开策 粟志伟 徐帅 王鼎 
国家自然科学基金(51972155)。
目的满足质子交换膜燃料电池双极板的使用要求。方法采用热丝增强等离子体磁控溅射技术,通过改变热丝放电电流调控溅射等离子体密度,在Ti6Al4V(TC4)合金表面制备了氮化铬(CrN)薄膜。结果随着热丝放电电流从0 A增加至32 A,真空腔内等离...
关键词:TC4钛合金 双极板 磁控溅射 等离子体密度 CRN薄膜 腐蚀抗性 
采用磁桶和同心等离子体源及材料源的等离子体淀积方法及设备
《表面技术》2006年第6期50-50,共1页
将导电金属涂敷材料从磁控溅射靶上溅射出来,利用带有射频能量的高密度等离子体使溅射出的导电金属涂敷材料在真空处理空间内离子化,射频耦合能量来自线圈,线圈位于真空室外面、绝缘窗后面,真空室壁面上的绝缘窗位于溅射靶的开口的...
关键词:等离子体淀积 等离子体源 磁控溅射靶 高密度等离子体 设备 料源 涂敷材料 等离子体密度 
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