等离子体蚀刻

作品数：49被引量：3H指数：1
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等离子体蚀刻衍射光学元件被引量：1
《中国激光》1993年第9期663-666,共4页张晓春 郭永康 郭履容 
国家教委博士学科点基金的资助
本文研究了将光致抗蚀剂衍射光学元件的连续沟槽蚀刻到基底层上的技术。实验分析了基底层沟槽与原版沟槽的形状和深度之间的关系。
关键词：衍射光学元件 等离子体刻蚀 沟槽 
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