云南高校图书馆联盟文献共享服务平台- 等离子增强化学气相沉积

等离子增强化学气相沉积: 作品数：61被引量：196H指数：7; 导出分析报告; 相关领域：电子电信理学更多>>; 相关作者：王如志张跃飞王海燕靳锐敏陈永生更多>>; 相关机构：中国科学院北京工业大学西安交通大学郑州大学更多>>; 相关期刊：更多>>; 相关基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划中国科学院“百人计划”国家重点基础研究发展计划更多>>

-

在结果中检索

检索结果分析

结果分析中...

选择条件：

期刊=微纳电子技术

共条记录，以下是1-2

全选清除导出

参考文献引证文献引用追踪

视图：

排序：

电极和匀气盘结构对PECVD氮化硅薄膜性能的影响: 《微纳电子技术》2017年第10期699-705,共7页韩东牛文举尹伊君韩建强; 国家自然科学基金资助项目(61376114;51377025); 在衬底温度为400℃、射频功率为20 W的条件下,通过改变SiH_4和NH_3的体积流量比、电极(圆环和平板电极)和匀气盘结构,采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法制备出不同成分的氮化硅薄膜,测量了薄膜的淀积速率、残余应力以及在HF溶液和...; 关键词：氮化硅薄膜残余应力等离子增强化学气相沉积(PECVD) 电极结构 KOH腐蚀

非晶硅薄膜连续激光晶化结构研究被引量：1: 《微纳电子技术》2015年第8期500-504,525,共6页程龙郝惠莲刘健俣马永品丁伟; 2014大学生重点科研平台创新训练项目(cz1405012);2014国家级创新训练项目(cs1305009);上海工程技术大学博士启动基金资助项目(201308);上海高校青年教师培养资助计划项目(ZZGJD13023); 为了研究连续激光晶化的非晶硅薄膜的结构特性,采用等离子体增强化学气相沉积技术在玻璃衬底上沉积了非晶硅薄膜,用波长为532 nm的连续激光对非晶硅薄膜进行晶化,并采用喇曼光谱仪、傅里叶红外吸收光谱仪和原子力显微镜对激光晶化前后...; 关键词：等离子增强化学气相沉积(PECVD) 非晶硅薄膜喇曼光谱激光晶化晶化率

全选清除导出

共1页<1>

检索报告对象比较聚类工具使用帮助返回顶部