云南高校图书馆联盟文献共享服务平台- 中频磁控溅射

中频磁控溅射: 作品数：74被引量：187H指数：6; 导出分析报告; 相关领域：金属学及工艺一般工业技术更多>>; 相关作者：邓建新邢佑强吴泽王首军宋文龙更多>>; 相关机构：中国科学院山东大学东南大学武汉大学更多>>; 相关期刊：更多>>; 相关基金：国家自然科学基金国家教育部博士点基金国家重点基础研究发展计划国家科技重大专项更多>>

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中频磁控溅射制备AlN薄膜被引量：4: 《核技术》2009年第3期169-172,共4页任克飞阴明利邹长伟付德君; 国家自然科学基金(10675095;10875091)资助; 设计了一套阳极层离子源辅助中频磁控溅射装置,并在Si(111)衬底上沉积AlN薄膜。用X射线衍射、原子力显微镜和扫描电镜分析了AlN薄膜的结构、形貌和成分。在优化的实验条件下制备的AlN薄膜具有较强的(002)衍射峰,其半高宽为612–648弧秒...; 关键词：中频磁控溅射 ALN 阳极层离子源

中频磁控溅射制备GaN薄膜被引量：3: 《核技术》2008年第7期515-518,共4页丁咚阴明利邹长伟郭立平付德君; 采用中频磁控溅射技术,以金属Ga为靶材料,在Si(111)衬底上形成了GaN薄膜,研究了溅射压强、衬底温度等对GaN薄膜结构和成分的影响。发现沉积气压为0.4～1.0Pa时,薄膜呈GaN(002)取向,气压大于1.0Pa和小于0.4Pa时,用X射线衍射方法难以观察...; 关键词：中频磁控溅射 GAN X射线衍射沉积速率

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