单粒子烧毁

作品数:51被引量:82H指数:5
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相关机构:杭州电子科技大学西安电子科技大学哈尔滨工业大学西北核技术研究所更多>>
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4H-SiC和6H-SiC功率VDMOSFET的单粒子烧毁效应被引量:12
《微纳电子技术》2017年第2期80-85,共6页刘忠永 蔡理 刘小强 刘保军 崔焕卿 杨晓阔 
国家自然科学基金资助项目(11405270)
对基于4H-SiC和6H-SiC的垂直双扩散MOSFET(VDMOSFET)的单粒子烧毁(SEB)效应进行了对比研究。建立了器件的二维仿真结构,对不同SiC材料构成的器件物理模型及其材料参数进行了修正。利用Silvaco TCAD软件进行了二维器件的特性仿真,得到了...
关键词:碳化硅(SIC) 单粒子烧毁(SEB) 垂直双扩散MOSFET((VDMOSFET)) SEB阈 值电压 二维器件仿真 
功率VDMOSFET单粒子效应研究被引量:4
《微纳电子技术》2008年第10期573-576,共4页段雪 郎秀兰 刘英坤 董四华 崔占东 刘忠山 孙艳玲 胡顺欣 冯彬 
阐述了空间辐射环境下n沟功率VDMOSFET发生单粒子栅穿(SEGR)和单粒子烧毁(SEB)的物理机理。研究了多层缓冲局部屏蔽抗单粒子辐射的功率VDMOSFET新结构及相应硅栅制作新工艺。通过对所研制的漏源击穿电压分别为65V和112V两种n沟功率VDMOS...
关键词:功率纵向双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管 单粒子栅穿 单粒子烧毁 缓冲屏蔽 锎源 
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