灰度掩模

作品数:20被引量:42H指数:4
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衍射光学元件灰度掩模板激光制作系统研究被引量:1
《光电工程》2004年第10期21-23,27,共4页漆新民 谌廷政 朱小进 高益庆 罗宁宁 王铮 
江西省自然科学基金资助项目
根据灰度掩模的制作理论,提出了由PP8000胶片输出仪、远心成像透镜组、平行准直He-Cd激光器构成的精缩投影曝光灰度掩模制作系统.通过灰度掩模平面不同位置处提供可变的透过率,经一次光刻后得到所需的衍射光学元件.该系统不仅可采用黑...
关键词:衍射光学元件 灰度掩模 激光曝光 激光光刻系统 
电寻址空间光调制器制作灰度掩模技术的研究被引量:5
《光电工程》2004年第7期46-49,64,共5页谌廷政 吕海宝 漆新民 高益庆 朱小进 
江西省测试与控制中心基金资助项目( KG200104006)
介绍了制作微光学元件灰度掩模的两种方案,它们分别使用TFT-LCD(薄膜晶体管液晶显示器)和DMD(数字微镜器件)两种电寻址空间光调制器,采用并行直写和实时掩模技术,提高了灰度掩模制作的速度和灵活性。刷新率的变化和黑栅衍射效应将导致...
关键词:灰度掩模 空间光调制器 衍射效率 微光学元件 
形成连续微光学元件的灰度掩模图形生成方法被引量:2
《光电工程》2000年第2期31-34,共4页周礼书 李学民 杜春雷 霍永峰 张益民 
中国科学院光电技术研究所所长基金资助!( JK980 5 )
针对利用灰度掩模制作连续微光学元件的方法 ,介绍了从元件结构到灰度图形的转换 ,灰度图形的修正 ,灰度图形的数字化以及图形编码等关键步骤。最后给出生成微透镜列阵掩模图形的实例。
关键词:微光学元件 灰度掩模 微型透镜 
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