机械抛光

作品数:1251被引量:2245H指数:20
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相关领域:电子电信金属学及工艺更多>>
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相关机构:河北工业大学清华大学罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司中芯国际集成电路制造(上海)有限公司更多>>
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硬质合金化学机械抛光工件-磨粒-抛光垫接触状态研究被引量:6
《中国机械工程》2021年第17期2074-2081,共8页毛美姣 许庆 刘静莉 袁巨龙 李敏 胡自化 
国家自然科学基金(U1809221);湖南省重点研发计划(2017GK2050);湖南省教育厅科学研究项目(19K094)。
基于弹塑性力学理论,对工件-磨粒-抛光垫间的接触状态进行理论分析,计算各状态下磨粒压入工件深度,建立接触状态临界条件的数学模型,并进行实验验证。研究结果表明:在硬质合金化学机械抛光过程中,工件-磨料-抛光垫间存在着非接触状态、...
关键词:硬质合金 化学机械抛光 接触状态 压入深度 临界条件 
单晶硅同质互抛实验研究被引量:1
《中国机械工程》2019年第23期2773-2777,共5页李庆忠 孙苏磊 李强强 
国家自然科学基金资助项目(51175228)
以材料的去除率和表面粗糙度为评价指标设计对比实验,验证了硬脆材料互抛抛光的可行性,得到了抛光盘转速对硬脆材料互抛的影响趋势和大小。实验结果表明:当抛光压力为48265 Pa(7 psi)、抛光盘转速为70 r/min时,自配抛光液互抛的材料去...
关键词:硅片 硬脆材料 互抛 化学机械抛光 对比实验 抛光效果 
基于响应曲面法的YG8硬质合金刀片化学机械抛光工艺参数优化被引量:16
《中国机械工程》2018年第19期2290-2297,共8页袁巨龙 毛美姣 李敏 刘舜 吴锋 胡自化 秦长江 
国家自然科学基金资助项目(51605163);湖南省自然科学基金资助项目(2017JJ4055);湖南省重点研发计划资助项目(2016GK2014,2017GK2050)
为了快速确定YG8前刀面抛光的最佳工艺参数,提高加工效率和精度,利用响应曲面法对YG8硬质合金刀片抛光工艺进行优化试验研究。通过单因素试验确定抛光转速、抛光压力、磨粒粒径和磨粒浓度的水平,并对4个工艺参数进行中心复合设计试验。...
关键词:化学机械抛光 硬质合金刀片 工艺参数优化 响应曲面法 
在线电解修整磨削与化学机械抛光相结合的蓝宝石基片组合加工技术被引量:8
《中国机械工程》2018年第11期1310-1315,共6页徐志强 尹韶辉 姜胜强 朱科军 
国家自然科学基金资助项目(51605409;51605410)
通过分析ELID磨削和CMP抛光两种加工技术的原理和特点,充分结合两种技术的优点,对蓝宝石基片进行超光滑纳米级精度的组合加工。从理论上分析和计算了蓝宝石的临界切削深度,以及在不同粒度砂轮下的脆性和延性磨削方式;采用不同粒度的砂...
关键词:蓝宝石基片 在线电解修整磨削 化学机械抛光 组合加工技术 
新型环保抛光液的制备及其对软脆碲锌镉晶片的化学机械抛光被引量:7
《中国机械工程》2014年第22期3008-3011,共4页张振宇 宋亚星 徐朝阁 
国家自然科学基金资助重大项目(91123013);清华大学摩擦学国家重点实验室开放基金资助项目(SKLTKF12A08);燕山大学亚稳材料制备技术与科学国家重点实验室开放基金资助项目(201302);中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(DUT13YQ109)
针对软脆碲锌镉晶片的传统加工工艺"游离磨料-抛光-化学机械抛光"存在的缺点,提出"固结磨料研磨-新型绿色环保抛光液化学机械抛光"新方法。固结磨料研磨工艺为:采用3000号刚玉防水砂纸,压力为17kPa,抛光盘与抛光垫转速均为80r/min,研磨...
关键词:碲锌镉 固结磨料 绿色环保抛光液 化学机械抛光 
脉冲磁场辅助磁性复合磨粒化学机械抛光技术及其加工试验研究被引量:2
《中国机械工程》2014年第9期1175-1179,1238,共6页黄亦申 赵彬善 黄水泉 游红武 许雪峰 
浙江省自然科学基金资助重点项目(Z1080625)
提出一种脉冲磁场辅助新型磁性复合磨粒化学机械抛光技术。该技术利用磁性聚合物微球与SiO2磨粒组成的复合磨粒抛光液,在脉冲磁场辅助作用下,实现磨粒尺寸对硬质抛光盘微观形貌依赖性小、磨粒易进入抛光区域、材料去除率较高的抛光。设...
关键词:化学机械抛光 脉冲磁场 磁性复合磨粒 材料去除率 硅片 
基于仿生结构锡抛光垫的抛光接触压力分析被引量:1
《中国机械工程》2011年第14期1651-1655,共5页王军 邢雪岭 吕玉山 张辽远 
国家自然科学基金资助项目(50875179)
为了让化学机械抛光中晶片接触表面受力更均匀,基于Winkler地基理论及叶序理论设计了一种锡仿生结构抛光垫,并且建立了抛光的接触力学模型和有限元分析模型。通过对抛光晶片表面接触压力的计算,获得了晶片表面接触压力分布,以及各物理...
关键词:化学机械抛光 WINKLER地基 叶序 晶片 表面形貌 
化学机械抛光中磨粒运动特性离散元仿真研究被引量:2
《中国机械工程》2011年第5期597-603,共7页谭援强 张浩 李明军 
国家自然科学基金资助项目(50875224);教育部新世纪人才项目(NCET:06-0708);教育部博士学科点专项科研基金资助项目(20070530003)
基于耦合计算流体力学和计算散体力学的方法,利用PFC3D软件模拟了复合磨粒抛光液化学机械抛光(CMP)中抛光液固液两相流的流动行为。通过2个数值实验并将其与他人实验数据进行对比,验证了利用PFC3D软件模拟纳米两相流问题的可行性。对CM...
关键词:离散元法 化学机械抛光 磨粒流 数值模拟 复合磨粒 
氮化硅陶瓷球化学机械抛光机理的研究被引量:8
《中国机械工程》2010年第10期1245-1249,共5页朱从容 吕冰海 袁巨龙 
国家自然科学基金资助重点项目(50535040);国家自然科学基金资助项目(50375147;50705028);浙江省重中之重学科开放基金资助项目(56310202018)
为探究氮化硅陶瓷球化学机械抛光过程及磨料与工件材料的相互作用规律,选用四种不同的磨料对氮化硅陶瓷球进行了抛光实验。通过对抛光后表面粗糙度的检测,讨论了不同种类磨料对工件表面粗糙度的影响。利用SEM观测工件表面形貌,探讨了不...
关键词:氮化硅陶瓷球 化学机械抛光 固相反应 X射线衍射 
一种用于化学机械抛光的加压装置设计研究被引量:3
《中国机械工程》2010年第7期839-842,864,共5页王彩玲 康仁科 金洙吉 
国家自然科学基金资助项目(50390061)
low-k材料的使用,使低下压力技术成为化学机械抛光(CMP)设备研发设计必须面临的关键技术之一,为适应该需求,提出了弹性组合元件加压技术,即通过改变加压元件的变形量来实现压力调整的机械调压技术。对该加压模式的设计要求及加压精度进...
关键词:化学机械抛光 低下压力 弹性组合元件 加压元件 
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