光学曝光

作品数：11被引量：13H指数：2
导出分析报告
相关领域：电子电信更多>>
相关作者：刘鑫张满唐波安跃华邓启凌更多>>
相关机构：中国科学院中国科学院微电子研究所合肥工业大学艾克塞利斯技术公司更多>>
相关期刊：《集成电路应用》《合肥工业大学学报（自然科学版）》《微细加工技术》《中国集成电路》更多>>
相关基金：国家自然科学基金深圳市科技计划项目更多>>
-
在结果中检索

检索结果分析

结果分析中...
选择条件：
  • 期刊=集成电路应用x
共 条 记 录，以下是1-1
全选清除导出
参考文献引证文献引用追踪
视图：
排序：
光刻机曝光技术演进被引量：2
《集成电路应用》2003年第12期3-6,共4页白杉 
1 引言目前,集成电路已经从60年代的每个芯片上仅几十个器件发展到现在的每个芯片上可包含约10亿个器件,其增长过程遵从一个我们称之为摩尔定律的规律,即集成度每3年提高4倍。这一增长速度不仅导致了半导体市场在过去30年中以平均每年约...
关键词：集成电路 光刻机 光学曝光 准分子激光 极紫外曝光 限角散射电子束投影曝光 
全选清除导出
共1页<1>
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部