压阻特性

作品数：90被引量：322H指数：10
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锰铜薄膜的制备及压阻特性
《电子元件与材料》2004年第9期3-5,共3页杨邦朝 滕林 杜晓松 周鸿仁 
军事电子预研基金资助项目(AW030412)
为了锰铜传感器微型化,采用直流磁控溅射法制备适合高压力测量的锰铜薄膜,用X射线衍射和扫描电子显微镜技术分析了薄膜的结构和形貌,动态加载实验标定了锰铜薄膜的压阻系数。研究结果表明,晶粒尺寸决定了薄膜的压阻系数,经360℃热处理1h...
关键词：锰铜薄膜 X射线衍射 扫描电镜 压阻系数 
磁控溅射镱薄膜的制备及压阻特性被引量：3
《真空科学与技术学报》2004年第6期472-474,480,共4页滕林 杨邦朝 杜晓松 周鸿仁 
军事电子预研基金资助 (No.AW0 3 0 412 )
使用直流磁控溅射的方法在聚酰亚胺上制备镱薄膜 ,XRD分析薄膜的晶体结构 ,SEM表征薄膜的形貌 ,利用一级轻气炮进行了 1 5GPa～ 2 5GPa的冲击加载压阻测试。研究结果表明 ,压阻系数依赖于薄膜的晶粒尺寸 ,经 30 0℃热处理 1h ,镱薄膜...
关键词：薄膜结构 系数 直流磁控溅射 晶体结构 表征 冲击加载 形貌 晶粒尺寸 晶粒长大 热处理 
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