HFO2薄膜

作品数：65被引量：149H指数：6
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相关机构：北京科技大学中国科学院上海光学精密机械研究所中国科学院西北工业大学更多>>
相关期刊：《武汉理工大学学报》《材料热处理学报》《光学精密工程》《光学学报》更多>>
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后处理对HfO_2薄膜光学特性及抗激光损伤阈值的影响被引量：6
《光学精密工程》2016年第12期3000-3004,共5页吴倩 罗晋 潘峰 
基金项目:大口径宽带低色散高阈值膜研制(No.2015AA8044064)
利用电子束蒸发技术制备了氧化铪薄膜,并分别用氧气氛下退火和激光预处理两种后处理方法对样品进行了处理。介绍了两种后处理工艺和相关的设备,测试分析了样品的透过率、吸收和抗激光损伤阈值。对比了两种后处理方法对降低吸收和提高激...
关键词：HFO2薄膜 镀膜技术 后处理 薄膜参数测量 薄膜光学特性 激光损伤阈值 
HfO_2薄膜的离子束刻蚀特性研究被引量：4
《光学精密工程》2004年第5期454-458,共5页王旭迪 徐向东 刘颖 洪义麟 付绍军 
国家863 804主题专项资助项目(No.863 804 9 2)
实验研究了HfO2薄膜特性以及掩模材料AZ1350以Ar为工作气体下的离子束的刻蚀特性。给出了离子能量、离子束流密度和离子束入射角等因素与刻蚀速率的关系曲线,用最小二乘法拟合了上述因素与刻蚀斜率的函数关系方程;分析了光刻胶和基片在...
关键词：HFO2薄膜 离子束刻蚀 刻蚀速率 图形转移 表面质量 
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