HVPE

作品数:79被引量:84H指数:5
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用氢化物气相外延(HVPE)法生长的氮化铟薄膜的性质研究
《高技术通讯》2014年第9期971-974,共4页俞慧强 修向前 张荣 华雪梅 谢自力 刘斌 陈鹏 韩平 施毅 郑有炓 
973计划(2011CB301900,2012CB619304,2010CB327504);863计划(2014AA032605);国家自然科学基金(60990311,61274003,60936004,61176063);江苏省自然科学基金(BK2011010)资助项目
在自制设备上用氢化物气相外延(HVPE)方法在α-Al_2O_3以及GaN/α-Al_2O_3衬底上生长了InN薄膜,并对其性质进行了研究。重点研究了生长温度的变化对所获得的InN薄膜的影响,并利用X射线衍射研究了InN薄膜的结构,用扫描电子显微镜研究了...
关键词:氮化铟(InN) 薄膜 氢化物气相外延(HVPE) 
Si衬底上横向外延GaN材料的微结构和光学性质的研究
《高技术通讯》2002年第3期47-49,共3页汪峰 张荣 陈志忠 朱健民 顾书林 沈波 李卫平 施毅 郑有炓 
国家重点基础研究专项(G20000683);国家杰出青年科学研究基金(60025411);国家自然科学基金(69976014,69636010,69806006,69987001);863计划(863307123(05),8637150010220,8637150110031)资助项目
用氢化物气相外延 (HVPE)方法在Si(III)衬底上成功横向外延生长出晶体质量较好的GaN薄膜材料。透射电子显微镜 (TEM )的研究结果表明 ,横向外延区域GaN的位错密度明显减小。由于SiO2 掩膜腐蚀角的不同 (分别为 90°和 6 6°) ,导致了横...
关键词:微结构和光学性质 HVPE横向外延GaN Si(III)衬底 
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