MAPPER

作品数：139被引量：269H指数：8
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Mapper向台积电发货电子束光刻系统 用于22nm节点
《电子工业专用设备》2008年第10期67-68,共2页
MapperLithography日前表示，公司已经向台积电（TSMC）发货其首套300mm电子束（e．beam）无掩模光刻工具，用于22nm工艺研发和器件原型制作。
关键词：光刻系统 MAPPER 电子束 节点 原型制作 无掩模 器件 
荷兰设备商Mapper获欧盟350万欧元资助 开发无掩膜光刻技术
《电子工业专用设备》2008年第3期26-26,共1页
EE Times日前报道：IBM、Rohm＆Haas电子材料部日前签署了一项共同开发协议，针对目前光刻技术的主要问题，为32nm及以下节点设计开发新型抗反射材料。双方计划开发全新248nm和193nm波长材料，包括底部抗反射涂层（BARC）和顶端抗发射...
关键词：光刻技术 MAPPER 开发 设备商 抗反射涂层 资助 欧盟 荷兰 
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