罗铂靓

作品数：7被引量：30H指数：3
导出分析报告
供职机构：四川大学物理科学与技术学院纳光子技术研究所更多>>
发文主题：光刻误差分析成像模型DMD灰度更多>>
发文领域：电子电信理学机械工程更多>>
发文期刊：《半导体技术》《光子学报》《激光技术》《固体电子学研究与进展》更多>>
所获基金：国家自然科学基金国家重点实验室开放基金更多>>
-
在结果中检索

检索结果分析

署名顺序

  • 全部
  • 第一作者
结果分析中...
共 条 记 录，以下是1-7
全选清除导出
参考文献引证文献引用追踪
视图：
排序：
用等腰三角形位相光栅进行相干光并束的研究被引量：1
《激光技术》2007年第6期561-564,共4页王景全 罗铂靓 张志友 方亮 杜惊雷 
国家自然科学基金资助项目(6067602460376021)
为了满足未来惯性约束激光核聚变(ICF)的快速点火装置对高能量激光束的要求,提出并特殊设计了一种可用于ICF系统中相干并束的等腰三角形位相光栅。模拟计算和分析的结果表明,这种等腰三角形位相光栅对4束相干激光并束的效率理论上可以达...
关键词：衍射光栅 相干并束 等腰三角形位相光栅 纵向随机误差 高度误差 横向误差 
基于数字微反射镜灰度光刻的成像模型被引量：13
《光子学报》2006年第9期1412-1416,共5页郭小伟 杜惊雷 罗铂靓 郭永康 杜春雷 
国家自然科学基金(60376021);微细加工国家重点实验基金资助
在深入探讨DMD(DigitalMirrorDevice)灰度图形传递的特点基础上,把曝光量分布作为分析数字光刻成像的物理量,建立了数字灰度光刻的成像模型.以制作微米量级微透镜为例,通过模拟分析,讨论了数字光刻过程中DMD的工作方式、成像系统参量对...
关键词：数字灰度光刻 DMD 成像模型 曝光量 
用二元位相光栅进行激光束叠加的研究被引量：6
《激光技术》2006年第4期381-384,389,共5页罗铂靓 王成程 杜惊雷 马驰 
基于标量衍射理论,系统探讨了二元位相光栅实现激光束叠加的理论和位相光栅设计方法,利用新型遗传模拟退火混合算法得到优化的光栅参数,给出其用于分束和耦合时的模拟结果,并讨论实际误差对位相光栅耦合效率的影响。二元位相光栅用于激...
关键词：光学设计与制造 光束叠加 二元位相光栅 遗传模拟退火算法 误差分析 
抗蚀剂AZ4562曝光参数的变化趋势分析
《固体电子学研究与进展》2006年第4期550-554,共5页罗铂靓 杜惊雷 刘世杰 郭小伟 马延琴 陈铭勇 杜春雷 郭永康 
国家自然科学基金(批准号60376021;60676024;60276018);微细加工光学技术国家重点实验室基金
针对厚胶曝光参数随不同光刻胶厚度及工艺条件变化的特点,在原有Dill曝光模型基础上,建立了适合于描述厚胶曝光过程的增强Dill模型,并将统计分析的趋势面法引入到厚胶曝光参数变化规律的研究中,给出了厚胶AZ4562曝光参数随胶厚及工艺条...
关键词：厚层抗蚀剂 曝光模型 曝光参数 趋势面分析法 
用于微器件加工的AZ4620厚胶光刻工艺研究被引量：9
《半导体技术》2005年第7期34-38,共5页罗铂靓 杜惊雷 唐雄贵 杜春雷 刘世杰 郭永康 
国家自然科学基金资助项目(60276018;60376018;60376021)微细工加光学技术国家重点实验室基金资助项目(0F03001;0F03002)
对AE4620厚胶紫外光刻工艺进行了实验研究,探讨了其工艺特性及光刻胶层的刻蚀面形与各种工艺条件的关系,提出了刻蚀高深宽比、最佳浮雕面形所需的工艺条件。通过对光刻工艺过程的研究, 可为较好地控制正性光刻胶面形,制作微机械、微光...
关键词：光刻胶 前烘 曝光 显影 
厚层抗蚀剂曝光模型及其参数测量被引量：1
《Journal of Semiconductors》2005年第5期1065-1071,共7页刘世杰 杜惊雷 段茜 罗铂靓 唐雄贵 郭永康 杜春雷 
国家自然科学基金(批准号:60276018);微细加工国家重点实验基金资助项目~~
针对厚层抗蚀剂曝光过程中存在诸非线性因素的影响,更新Dill曝光参数的定义,建立了适合描述厚层抗蚀剂曝光过程的增强Dill模型.光刻过程模拟的准确性与曝光参数的测量精度有很大关系,为此,建立了实时曝光监测实验装置,测量了不同工艺条...
关键词：厚层抗蚀剂 光刻 曝光 增强Dill模型 曝光参数 
用于分数傅里叶域滤波位相元件设计新算法
《光电工程》2005年第3期54-57,共4页刘建莉 高峰 杜惊雷 罗铂靓 段茜 
国家自然科学基金(60376021);微细加工光学技术国家重点实验室基金资助
基于部分相干成像和分数傅里叶变换理论,建立成像系统的分数傅里叶域滤波模型,提出了可快速设计分数域位相型滤波片的 FrPI 算法。此算法将逆向设计预设初位相与分数傅里叶迭代技术相结合,针对成像系统中不同的设计要求可快速设计出所...
关键词：相干成像系统 分数傅里叶域滤波片 FrPI 光刻 
全选清除导出
共1页<1>
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部