戴敏

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供职机构:南京大学更多>>
发文主题:A-SI纳米硅电容-电压特性退火X更多>>
发文领域:电子电信更多>>
发文期刊:《固体电子学研究与进展》更多>>
所获基金:江苏省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
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a-SiN_x/nc-Si/a-SiN_x三明治结构的电荷存储效应
《固体电子学研究与进展》2002年第4期445-448,共4页戴敏 鲍云 石建军 张林 李伟 陈铠 王立 黄信凡 陈坤基 
国家自然科学基金资助 (项目编号 :90 10 10 2 0 ;60 0 710 19);江苏省自然科学基金资助 (项目编号 :BK2 0 0 10 2 8)
采用等离子体增强化学气相淀积 (PECVD)生长技术结合限制性结晶原理 ,采用与硅平面工艺相兼容的准静态热退火方法 ,使 a-Si:H层晶化 ,制备出了高密度的、尺寸均匀的 nc-Si薄膜 ;利用 Raman散射和透射电镜 (TEM)技术 ,分析了样品的结构特...
关键词:纳米硅 退火 电容-电压特性 电荷存储 
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