吴宇峰

作品数：2被引量：9H指数：2
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供职机构：东北大学机械工程与自动化学院更多>>
发文主题：非平衡磁控溅射孪生TIN工艺参更多>>
发文领域：一般工业技术金属学及工艺更多>>
发文期刊：《真空与低温》《钢铁研究学报》更多>>
所获基金：国家高技术研究发展计划更多>>
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工艺参数对非平衡磁控溅射Ti/TiN/Ti(C,N)薄膜硬度的影响被引量：6
《钢铁研究学报》2007年第7期50-53,共4页张以忱 吴宇峰 巴德纯 马胜歌 
国家高新技术863计划资助项目(2001AA338010)
采用中频非平衡磁控溅射工艺,在316L不锈钢、高速钢和硬质合金3种基体材料上制备Ti/TiN/Ti(C,N)膜系的硬质薄膜。通过改变工作气氛、基体负偏压等工艺参数,对制备薄膜的硬度进行检测分析,结果表明:在Ti(C,N)薄膜的制备中,工作气氛和基...
关键词：非平衡磁控溅射 Ti(C  N)薄膜 薄膜硬度 基体负偏压 
中频孪生靶非平衡磁控溅射制备Ti/TiN/Ti(N,C)黑色硬质膜被引量：4
《真空与低温》2006年第1期15-18,22,共5页马胜歌 吴宇峰 耿漫 
国家863计划资金项目(2001AA338010)资助
利用自制的等离子体增强型渗注镀复合处理设备上的非平衡磁控溅射功能,在不同硬度基底上制备了Ti/TiN/Ti(N,C)多层复合膜。膜呈深黑色,表面光滑平整,可见光区反射率在8.2%～10.2%之间,亮度L=38.01,沉积速率约为1.21μmh。膜的硬度测试...
关键词：黑色硬质膜 非平衡磁控溅射 Ti(N C) 中频反应溅射 孪生靶 
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