王英剑

作品数:32被引量:172H指数:8
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供职机构:中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
发文主题:增透膜损伤阈值弱吸收渐变折射率离子源更多>>
发文领域:理学电子电信化学工程一般工业技术更多>>
发文期刊:《光学学报》《功能材料》《光子学报》《中国激光》更多>>
所获基金:国家高技术研究发展计划国家自然科学基金更多>>
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波长分离膜在2μm飞秒激光作用下的损伤特性被引量:1
《中国激光》2011年第1期184-188,共5页刘娜 王英剑 井绪峰 周明 王胭脂 崔云 晋云霞 
用离子束溅射的方法在红外石英玻璃基底上制备了Ta2O5/SiO2(1.064μm波长下高透,2.128μm波长下高反)波长分离膜,利用飞秒激光系统(输出波长为2μm,脉宽为80 fs)测试了它的激光损伤情况,同时用光学显微镜和扫描电镜观察了样品的损伤形貌...
关键词:薄膜 波长分离膜 2μm飞秒激光 损伤阈值 损伤形貌 
离子束辅助技术获得高激光损伤阈值的增透膜被引量:15
《中国激光》2006年第5期683-686,共4页王聪娟 晋云霞 王英剑 邵建达 范正修 
采用合适的离子束辅助沉积(IBAD)参数在K9基底上镀制了高激光损伤阈值的中心波长1053 nm的增透膜,分别从光谱性能、吸收性能、抗激光损伤阈值(LIDT)以及退火后的影响等方面与未进行离子束辅助沉积的薄膜进行对比分析。实验结果发现,采...
关键词:薄膜 离子辅助沉积 弱吸收 激光损伤阈值 
基于梳状小波理论的颜色滤光片设计被引量:3
《光学学报》2006年第5期792-796,共5页王丹 徐学科 沈自才 王英剑 范正修 
渐变折射率薄膜因为消除了界面而克服了传统的分层介质膜的固有弊端。探讨了一种基于这种渐变膜系的设计方法。从小波理论及渐变折射率增透理论出发,以分层介质高反膜系为参照,给出了采用梳状(Rugate)滤光片设计不同类型颜色滤光片的设...
关键词:薄膜光学 颜色滤光片 渐变折射率 梳状滤光片 小波 
德鲁德分布非均匀膜的光学特性模拟分析
《光子学报》2005年第12期1862-1867,共6页沈自才 王英剑 范正修 邵建达 
从德鲁德理论出发,对多元共蒸法镀制的非均匀膜的折射率分布与沉积速率的关系进行了探讨;然后利用计算机辅助模拟,对德鲁德分布非均匀光学薄膜,从单周期和多周期、正变和负变、完整周期和存在半周期几个方面对其光学特性进行了系统分析...
关键词:光学薄膜 非均匀性 滤光片 优化 
非均匀性对单层膜光学特性的影响被引量:7
《光子学报》2005年第10期1526-1529,共4页沈自才 宋永香 王英剑 范正修 邵建达 
探讨了不同规律的非均匀性对单层膜的光谱特性的影响,与均匀单层膜对比发现折射率正变引起透射率的极大值减小,折射率负变引起透射率的极大值变大,当非均匀性很小时,透射率的极小值基本不变.对实验制备的单层膜从实验和理论上进行了对...
关键词:非均匀性 拟合 光谱特性 
倍频波长分离膜半波孔的消除被引量:4
《强激光与粒子束》2005年第B04期155-158,共4页马小凤 余祥 王英剑 邵建达 范正修 
国家863计划项目资助课题
指出了膜料色散、膜层折射率非均匀性以及膜厚控制误差积累等是导致半波孔产生的几个因素,其中膜层厚度周期性误差积累和敏感层厚度误差是导致半波孔的主要因素,还指出了半波孔的大小与膜系结构有关。借助计算机做了相应的数值计算,并...
关键词:倍频波长分离膜 半波孔 色散 折射率非均匀性 
线性共蒸法制备渐变折射率薄膜的光学特性分析被引量:11
《中国激光》2005年第6期829-834,共6页沈自才 王英剑 范正修 邵建达 
利用德鲁德理论和洛伦兹洛伦茨理论,从介电常数分析入手,探讨了混合介质膜的折射率表达式,给出利用双源共蒸法镀制的渐变折射率薄膜在混合介质膜的总沉积速率恒定、两种膜料的单分子大小近似相等和沉积速率均为线性变化时的折射率表达式...
关键词:薄膜 渐变折射率 共蒸法 德鲁德理论 洛伦兹-洛伦茨理论 
1064nm倍频波长分离膜的制备与性能研究被引量:6
《中国激光》2005年第6期835-838,共4页马小凤 张东平 王英剑 范书海 高卫东 范正修 邵建达 
国家863项目(2003AA311040)资助。
通过对主膜系添加匹配层并借助计算机对膜系进行优化,设计出结构规整、性能优良的1064nm倍频波长分离膜。用电子束蒸发及光电极值监控技术在K9玻璃基底上沉积薄膜,将样品置于空气中在260℃温度下进行3h热退火处理。然后用Lambda900分光...
关键词:薄膜 倍频波长分离膜 弱吸收 激光损伤阈值 
反射式相位延迟器的性能研究被引量:3
《中国激光》2005年第6期761-764,共4页黄建兵 张大伟 张东平 王英剑 邵建达 范正修 
多层介质反射镜在非正入射的时候,两个不同的偏振态之间会产生不同的相移。通过优化设计,入射角为45°,在1285~1345nm之间p,s波获得了270°±0.15°的相移和99.5%以上的反射率。对使用的膜系进行了每层光学厚度的误差分析。用离子束溅...
关键词:薄膜 相移 反射式 退火 
磁控反应溅射法制备渐变折射率薄膜的模型分析被引量:5
《物理学报》2005年第10期4842-4845,共4页沈自才 邵建达 王英剑 范正修 
阐述了磁控反应溅射法制备渐变折射率薄膜的机理;探讨了磁控反应溅射法制备渐变折射率薄膜的理论模型,给出了渐变折射率薄膜的折射率与反应气体分压的关系,在一定的沉积参数下,由要得到的膜层折射率随膜层几何厚度的变化规律可推导出反...
关键词:渐变折射率 磁控反应溅射 模型 反应溅射法 薄膜 制备 模型分析 磁控 变化规律 反应气体 
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