冯术成

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供职机构：电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室更多>>
发文主题：残余应力IPC-V特性BST薄膜后处理工艺更多>>
发文领域：理学电气工程电子电信更多>>
发文期刊：《功能材料》《现代电子技术》《实验科学与技术》更多>>
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后处理工艺对BST薄膜残余应力的影响的分析
《功能材料》2007年第A02期771-774,共4页唐海军 杨传仁 陈宏伟 张继华 冯术成 
国家重点基础研究发展计划（973计划）资助项目（Z01）.
采用射频磁控溅射在Pt/Ti/SiO2/Si（100）衬底上制备了钛酸锶钡（BST）薄膜，利用气氛炉对薄膜进行晶化处理，晶化后薄膜的应力采用XRD表征。研究其残余应力随退火气氛、退火温度以及退火降温速率变化的趋势，通过对不同后处理工艺参数...
关键词：射频磁控溅射 钛酸锶钡薄膜 晶化 残余应力 
平板显示器件通用驱动电路IP核的设计
《现代电子技术》2005年第19期124-126,共3页李益全 杨传仁 张继华 唐章东 冯术成 
介绍了一种全新的平板显示器件通用驱动电路IP核的总体设计。采用自顶向下的设计方法将其划分为几个主要模块,并分别介绍各个模块的功能,用VHDL语言对其进行描述,并用FPGA实现。通过仿真验证,该IP核具有良好的移植性,规模可调,可用于多...
关键词：平板显示 驱动电路 IP 规模可调 
铁电薄膜C-V特性测量研究
《实验科学与技术》2005年第z1期129-131,共3页冯术成 杨传仁 陈宏伟 符春林 廖家轩 尹开锯 
采用TH2828型LCR测试仪及四端对接测量方法,搭建了铁电薄膜的介电特性测试平台。利用此测试平台对自制钛酸锶钡(简称BST)铁电薄膜材料的C-V特性进行测量,能准确表征铁电薄膜的介电特性。
关键词：铁电薄膜 C-V特性测量 四端对接 实验 
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