左磊召

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供职机构:南京邮电大学电子科学与工程学院更多>>
发文主题:MOS器件短沟道效应阈值电压建模与仿真研究小尺寸更多>>
发文领域:电子电信更多>>
发文期刊:《微电子学》更多>>
所获基金:国家自然科学基金江苏省高校自然科学研究项目更多>>
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SOI和体硅MOSFET大信号非准静态效应比较研究
《微电子学》2011年第3期436-441,共6页程玮 郭宇锋 张锐 左磊召 花婷婷 
国家自然科学基金资助项目(6080602761076073);江苏省高校自然科学基金资助项目(09KJB510010);江苏省高校自然科学重大基础研究项目(08KJA510002);南通市科技项目(K2008024)
研究了全耗尽SOI、部分耗尽SOI和体硅NMOS器件中源、漏、栅和衬底电流的非准静态现象。研究表明,在相同的结构参数下,体硅器件的非准静态效应最强,PDSOI次之,FDSOI最弱。指出了沟道源、漏端反型时间和反型程度的不同是造成非准静态效应...
关键词:非准静态效应 全耗尽SOI 部分耗尽SOI 射频 MOSFET 
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