吕东锋

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MEMS版图绘制方法的研究
《集成电路通讯》2013年第3期34-37,共4页庄须叶 吕东锋 陈博 王文婧 王鹏 
结合复杂结构MEMS版图绘制中的曲面构型，对L—Edit、Covenr、AumCAD多软件联合MEMS版图绘制方法进行了研究。通过设计图形多格式转换的整合重构，完成了角构型曲面结构版图的设计，满足了直接进行工艺仿真的要求，提高了MEMS器件的设...
关键词：L—Edit Coventor AUTO CAD MEMS版图 
ICP硅刻蚀中底部掏蚀现象研究
《集成电路通讯》2011年第4期1-5,共5页黄斌 陈璞 吕东锋 郭群英 
等离子硅深槽刻蚀中，反射离子造成的掏蚀现象直接影响MEMS器件的加工质量，通过在现有ICP硅深槽刻蚀工艺条件的基础上进行改进，有效的降低了等离子的反射密度和能量，大大改善了结构释放过程中底部掏蚀的不良影响，为底部掏蚀问题提...
关键词：深槽刻蚀 结构释放 Log效应 掏蚀 
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