孙霞光

作品数：2被引量：2H指数：1
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供职机构：东北大学理学院材料物理与化学研究所更多>>
发文主题：分子束外延超导臭氧分子束外延法CUO更多>>
发文领域：电子电信一般工业技术电气工程金属学及工艺更多>>
发文期刊：《金属学报》《稀有金属材料与工程》更多>>
所获基金：国家自然科学基金更多>>
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高浓度臭氧在分子束外延法制备Bi系氧化物薄膜中的应用被引量：2
《金属学报》2008年第6期647-651,共5页张炳森 于晓明 孙霞光 李茂林 张彩碚 祁阳 
国家自然科学基金50572013
利用硅胶吸附解吸臭氧原理自制了臭氧浓缩装置，通过此装置制备的高浓度臭氧作为分子束外延制备Bi系氧化物薄膜的氧化源．在臭氧浓缩装置中，硅胶温度保持在-85℃左右，工作6h，可获得浓度（摩尔分数）高于95％的臭氧．当臭氧浓缩装置...
关键词：臭氧 浓缩装置 Bi系氧化物薄膜 分子束外延 
Bi_(2.1)Ca_ySr_(1.9-y)CuO_(6+δ)薄膜制备及性能被引量：1
《稀有金属材料与工程》2008年第A04期133-136,共4页张炳森 孙霞光 李茂林 于晓明 张彩碚 祁阳 
国家自然科学基金(50572013)资助
利用分子束外延法在MgO(100)衬底上制备Bi2.1CaySr1.9-yCuO6+δ薄膜。薄膜的结构、外延性、化学计量比及表面形貌通过X射线衍射仪、X射线能谱仪及扫描电子显微镜表征,薄膜的R-T曲线通过标准四引线法测量。结果表明,Bi2.1CaySr1.9-yCuO6...
关键词：Bi系氧化物薄膜 超导 分子束外延 
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