乔文华

作品数：4被引量：3H指数：1
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供职机构：沈阳仪器仪表工艺研究所更多>>
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四电极电化学腐蚀在微压传感器制造中的应用被引量：1
《仪表技术与传感器》2000年第8期11-12,共2页乔文华 张纯棣 张治国 
在研究四电极电化学腐蚀工艺过程中 ,考虑了与扩散硅压力传感器芯片平面工艺的兼容性 ,使得该工艺用于微压传感器的制造。微压传感器采用梁膜结构设计 ,膜区厚度为 1 0 μm ,制造出的微压传感器灵敏度为 5 0mV/ 3kPa/ 1mA ,端点法非线性...
关键词：四电极 电化学腐蚀 微压传感器 梁膜结构 制造 
E 型扩散硅力敏器件的研制被引量：1
《仪表技术与传感器》1997年第9期34-36,共3页庞世信 李妍君 乔文华 
本文阐述了Ｅ型膜片的结构特性，根据其应力分布特点及硅材料在（１１０）晶面的＜１１１＞晶向上具有最大压阻系数，开展了力敏芯片的最佳设计，并进行了Ｅ型力敏器件的制作。最后给出了器件的主要技术指标。
关键词：硅 差压 力敏器件 传感器 
EI型扩散硅力敏器件工艺技术研究被引量：1
《仪表技术与传感器》1995年第1期17-19,共3页李妍君 乔文华 吴丁民 
本文叙述的EI型扩散硅力敏器件为工业变送器配套使用的微差压传感器,其压力量程为0.6kPa,线性优于0.5％。该器件填补国内空白,器件性能指标达到国际80年代中期同类产品先进水平。
关键词：扩散硅 力敏器件 工艺 压差传感器 变送器 
可见光光敏元件的光谱修正
《仪表技术与传感器》1990年第5期12-15,共4页季安 唐慧 乔文华 
为了使硅光电池的光谱曲线与人眼的视觉函数相近,必须对光电池的光谱曲线进行修正。本文叙述了使用单层色玻璃对硅光电池光谱曲线进行修正的方法。
关键词：可见光 光敏元件 光谱 硅光电池 
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