刘永刚

作品数：2被引量：5H指数：1
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供职机构：河北普兴电子科技股份有限公司更多>>
发文主题：RCA清洗硅外延片功率半导体器件刻蚀铜污染更多>>
发文领域：电子电信更多>>
发文期刊：《科技风》《清洗世界》更多>>
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影响功率半导体器件用硅外延片清洗质量的因素被引量：4
《清洗世界》2019年第6期38-40,共3页薛宏伟 周晓龙 刘永刚 
硅外延片非常适合且已经被广泛用作制备功率半导体器件,但其供给远远不能满足市场需求。硅外延片清洗后,可能会造成表面有机物、颗粒、金属污染物和水痕残留,直接影响到功率半导体器件用晶圆加工过程的稳定性和加工产品的最终良率。从...
关键词：功率半导体器件 硅外延片 表面 RCA清洗 
浅谈硅片背面铜污染的清洗被引量：1
《科技风》2015年第15期128-128,共1页刘永刚 
在半导体芯片的生产过程中,硅片背面出现铜污染(以下简称Cu污染)的现象屡见不鲜。目前有三种溶液配制成的混合液可作为清洗液使用,它们分别是由H2SO4/H2O2/H2O、HNO3/HF和HF/H2O2/H2O各按照一定比例配制成的。本文就是针对这三种清洗液...
关键词：铜污染 单片清洗 硅片背面 刻蚀 
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