周毅

作品数：4被引量：2H指数：1
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供职机构：北京大学更多>>
发文主题：多孔硅厚膜电化学腐蚀英文ICP刻蚀更多>>
发文领域：电子电信理学更多>>
发文期刊：《Journal of Semiconductors》《稀有金属材料与工程》更多>>
所获基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
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适用于高品质射频集成电感的多孔硅新型衬底制备技术被引量：1
《Journal of Semiconductors》2005年第6期1182-1186,共5页周毅 杨利 张国艳 黄如 
国家自然科学基金资助项目(批准号:60306005)~~
提出了背向选区腐蚀生长多孔硅的集成电感衬底结构.ASITIC模拟证明,该新型衬底结构的集成电感在高频下仍具有较高的品质因子.采用此工艺,在固定腐蚀液配比的条件下,变化电流密度和阳极氧化时间,制备出了高质量的厚膜多孔硅,并测量了多...
关键词：射频集成电路 多孔硅 集成电感 品质因子 
纳米级精细线条图形的微细加工被引量：1
《Journal of Semiconductors》2004年第12期1722-1725,共4页任黎明 王文平 陈宝钦 周毅 黄如 张兴 
国家重点基础研究专项基金 (批准号 :G2 0 0 0 0 3 65 0 1);国家自然科学基金 (批准号 :90 2 0 70 0 4)资助项目~~
对分辨率极高的电子束光刻技术和高选择比、高各向异性度的 ICP刻蚀技术进行了研究 ,形成一套以负性化学放大胶 SAL- 6 0 1为电子抗蚀剂的电子束光刻及 ICP刻蚀的优化工艺参数 ,并利用这些优化参数结合电子束邻近效应校正等技术制备出...
关键词：微细加工 电子束光刻 邻近效应校正 ICP刻蚀 
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