邻近效应校正

作品数：35被引量：68H指数：4
导出分析报告
相关领域：电子电信更多>>
相关作者：李艳秋宋会英陈宝钦马旭刘明更多>>
相关机构：中国科学院微电子研究所ASML荷兰有限公司中国科学院中国石油大学（华东）更多>>
相关期刊：《湖南大学学报（自然科学版）》《微纳电子技术》《遥感技术与应用》《机电工程技术》更多>>
相关基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划山东省自然科学基金更多>>
-
在结果中检索

检索结果分析

结果分析中...
共 条 记 录，以下是1-10
全选清除导出
参考文献引证文献引用追踪
视图：
排序：
基于Monte Carlo方法的三维邻近效应校正
《机电工程技术》2025年第2期54-59,共6页张誉腾 刘珠明 梁锡辉 王铠尧 李全同 王其瑞 段飞 陈德龙 
广东省重点领域研发计划项目(2020B0101320002)。
针对电子束光刻中由于电子束散射引起的邻近效应带来的光刻图形精度变差问题,传统的二维邻近效应校正方法在处理精细和三维结构时未能有效应对,尤其是在图形的边缘和角点处。提出了一种基于剂量校正的新型的三维邻近效应校正方法。运用M...
关键词：电子束光刻 邻近效应 三维校正 剂量分布 Monte Carlo模拟 
极紫外光刻中的边缘放置误差控制
《中国激光》2024年第7期64-84,共21页曹晶 杨文河 刘泽旭 陈韫懿 魏鑫 林楠 
极紫外(EUV)光刻是7 nm及以下技术节点芯片大规模量产的关键技术。随着技术节点的减小、工艺复杂性的增加,芯片的良率面临着巨大挑战。边缘放置误差(EPE)是量化多重曝光技术过程中制造图案保真度的最重要指标。EPE控制已成为多重曝光和...
关键词：测量 极紫外光刻光源 套刻 光学邻近效应校正 对准 
高分二号全色卫星影像大气校正被引量：1
《光学学报》2023年第6期162-170,共9页郑杨 李正强 王思恒 马䶮 李凯涛 张玉环 刘振海 杨磊库 侯伟真 顾浩然 李殷娜 姚前 何卓 
海南省重点研发科技合作方向项目(ZDYF2020206);国家杰出青年科学基金(41925019);国家自然科学基金(41871269,41975036)。
利用大气辐射传输模型和指数衰减点扩展函数,发展了一套适用于亚米级分辨率的全色卫星影像的大气校正方法,该方法充分考虑了大气参数(气溶胶、水汽、臭氧及其他吸收气体等参数)、空间分辨率、背景像元与目标像元的空间距离等对邻近效应...
关键词：大气光学 全色卫星影像 高分二号 大气校正 邻近效应校正 
电子束光刻“自主可控”EDA软件HNU-EBL被引量：1
《湖南大学学报（自然科学版）》2022年第10期183-191,共9页姚文泽 徐宏成 赵浩杰 刘薇 侯程阳 陈艺勤 段辉高 刘杰 
国家自然科学基金资助项目(61804049)。
为模拟和优化电子束光刻(Electron Beam Lithography,EBL)工艺过程,提高电子束光刻版图加工质量,依托湖南大学(Hunan University,HNU)开发了一套电子束光刻的“自主可控”国产电子设计自动化(Electronic Design Automation,EDA)软件HNU-...
关键词：电子束光刻 计算光刻 Monte Carlo方法 邻近效应校正 EDA软件 
芯片制造语境下的计算光刻技术被引量：2
《激光与光电子学进展》2022年第9期1-14,共14页施伟杰 俞宗强 蒋俊海 车永强 李思坤 
计算光刻技术是提高分辨率的重要手段,是连接芯片设计与制造的桥梁。首先,介绍了计算光刻技术的起源即第1代光学邻近效应校正(OPC)技术,基于规则的OPC;随后,以14 nm芯片制造过程为例介绍了现代芯片制造采用的各种计算光刻技术,包括基于...
关键词：计算光刻 光学邻近效应校正 全景优化 反向光刻 
光刻技术《激光与光电子学进展》
《激光与光电子学进展》2021年第21期F0002-F0002,共1页
光刻机是极大规模集成电路制造的核心装备,其分辨率决定了集成电路芯片的集成度。为了追求更高的分辨率,光刻机曝光波长已从436 nm可见光波段减小到193 nm深紫外波段,再到当前最短的13.5 nm极紫外波段。投影物镜的数值孔径则从初期的0.2...
关键词：集成电路芯片 光刻机 光刻技术 投影物镜 光学邻近效应校正 数值孔径 紫外波段 掩模 
亚米级光学卫星影像邻近效应校正被引量：4
《物理学报》2021年第13期435-442,共8页王涛 周楠 易维宁 洪津 刘晓 李新 张权 刘诗雨 李照洲 李凯涛 崔文煜 
国家重点研发计划(批准号:2018YFB0504600)资助的课题.
邻近效应是指卫星成像过程中目标物周围自然环境反射的太阳辐射对卫星入瞳处目标像元辐亮度的贡献.它会导致卫星图像清晰度、对比度和信息熵值降低,并且导致表观反射率卫星影像中目标像元反射率介于其真实反射率和背景像元平均反射率之...
关键词：邻近效应 亚米级卫星影像 自适应大气校正 定量遥感 
太湖沿岸水体高分一号影像的邻近效应校正被引量：3
《激光与光电子学进展》2018年第10期358-365,共8页程春梅 李渊 韦玉春 涂乾光 
国家自然科学基金(41471283;41501374);浙江省自然科学青年基金(LQ16D010001)
对于沿岸水体,传感器接收到的水体辐射信号受到沿岸陆地高反射率的影响,图像对比度降低,邻近效应影响显著。有效剔除大气衰减和邻近效应,准确获取水体表面反射率,是水色遥感定量反演的重要前提。基于2016年4月29日太湖沿岸水体的实测光...
关键词：遥感 大气校正 邻近效应 高分一号 6S模型 太湖 
一种离线光学邻近效应匹配方法的研究和仿真被引量：1
《微纳电子技术》2015年第3期197-203,共7页宋之洋 郭沫然 苏晓菁 刘艳松 粟雅娟 韦亚一 
国家科技重大专项资助项目(2013ZX02303)
目前小技术节点的光学邻近效应校正(OPC)过分依赖光刻机与光刻工艺的属性,量产时难以在不同型号光刻机间转移,而国内芯片制造厂光刻机种类繁杂,不可避免地需要解决工艺转移的问题。针对上述问题,以不同光刻机间的光学邻近效应匹配为研...
关键词：光刻 计算光刻 光学邻近效应校正(OPC) 光学邻近效应匹配 工艺窗口控制 
低能电子束光刻过程的Monte Carlo模拟分析研究被引量：2
《微纳电子技术》2012年第12期812-819,828,共9页吴鹏 潘江涌 周再发 
国家重大科技专项资助项目(2011ZX02507-001-003);教育部新世纪优秀人才支持计划资助项目(NCET-11-0099)
对低能电子在光刻胶和衬底中的复杂散射过程进行分析和物理建模,采用Monte Carlo方法进行模拟研究。利用Browning拟合公式来解决Mott弹性散射截面计算速度慢的问题,采用D.C.Joy和S.Luo修正的Bethe能量损耗公式计算低能电子在固体中的能...
关键词：电子束光刻 MONTE CARLO模拟 低能电子束 显影轮廓图 邻近效应校正 
全选清除导出
共4页<1234>
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部