云南高校图书馆联盟文献共享服务平台- 廉瑞凯

廉瑞凯: 作品数：1被引量：8H指数：1; 导出分析报告; 供职机构：长春理工大学更多>>; 发文主题：GAN材料特性ALN缓冲层ALNAL更多>>; 发文领域：理学机械工程电子电信更多>>; 发文期刊：《中国激光》更多>>; 所获基金：国家自然科学基金更多>>

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预辅Al及AlN缓冲层厚度对GaN/Si(111)材料特性的影响被引量：8: 《中国激光》2013年第1期158-162,共5页廉瑞凯李林范亚明王勇邓旭光张辉冯雷朱建军张宝顺; 国家自然科学基金(61176126;61006084);杰出青年基金(60925017)资助课题; 主要研究了采用高温AlN缓冲层外延生长GaN/Si(111)材料的工艺技术。利用高分辨X射线双晶衍射(HRXRD)分析研究了GaN/Si(111)样品外延层的应变状态和晶体质量,通过原子力显微镜(AFM)分析研究了不同厚度的高温AlN缓冲层对GaN外延层的表面...; 关键词：材料 GAN SI(111) ALN缓冲层预辅Al 应变状态