陈友篷

作品数：1被引量：4H指数：1
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供职机构：中国电子科技集团第五十八研究所更多>>
发文主题：PSM工艺技术相移掩模电子束曝光更多>>
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先进相移掩模(PSM)工艺技术被引量：4
《电子与封装》2010年第9期41-45,共5页彭力 陈友篷 尤春 周家万 
先进相移掩模(PSM)制造是极大规模集成电路生产中的关键工艺之一,当设计尺寸(CD)为0.18μm时,就必须在掩模关键层采用OPC(光学邻近校正)和PSM(相移技术),一般二元掩模由于图形边缘散射会降低整体的对比度,无法得到所需要的图形。通过相...
关键词：相移掩模 电子束曝光 相位角分析 缺陷检测 
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