国家重点基础研究发展计划(G2000068304)

作品数:1被引量:2H指数:1
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基于MBE生长的一种Be掺杂InGaAs基区的新结构InGaP/InGaAs/GaAs DHBT被引量:2
《Journal of Semiconductors》2006年第6期1064-1067,共4页苏树兵 徐安怀 刘新宇 齐鸣 刘训春 王润梅 
国家重点基础研究发展规划(批准号:G2000068304;2002CB311902);中国科学院重点创新(批准号:KGCX2SW107)资助项目~~
报道了一种以InGaAs为基区的新结构InGaP/InGaAs/GaAs双异质结晶体管,获得了直流性能良好的器件.其共射直流增益β达到100,残余电压Voffset约为0.4V,膝点电压Vknee约为1V,击穿电压BVceo超过10V,器件的基极和集电极电流理想因子分别为nb=...
关键词:MBE InGaAs基区 双异质结双极晶体管 
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