云南高校图书馆联盟文献共享服务平台- 等离子体蚀刻

等离子体蚀刻: 作品数：49被引量：3H指数：1; 导出分析报告; 相关领域：电子电信更多>>; 相关作者：李泽宇谢安彭平刘秀红朱兴华更多>>; 相关机构：东京毅力科创株式会社朗姆研究公司SPTS科技有限公司兰姆研究有限公司更多>>; 相关期刊：《集成电路应用》《等离子体应用技术快报》《化工新型材料》《电子科技文摘》更多>>; 相关基金：江苏省高校自然科学研究项目国家教育部博士点基金湖北省教育厅重点项目更多>>

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期刊=Bulletin of the Chinese Academy of Sciences

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A breakthrough in core IC equipment R&D and industrialization: 《Bulletin of the Chinese Academy of Sciences》2006年第4期247-247,共1页; A major special project of integrated circuit （IC） manufacturing equipment of the National High-tech Research and Development Program, dubbed ＂863＂ Program, passed the acceptance check jointly organized by the Mi...; 关键词：集成电路制造设备等离子体蚀刻离子注入核心装备研究开发检查验收

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