射频溅射

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Ar压力和基体温度对RF溅射制备的ZnO透明导电薄膜性能的影响
《等离子体应用技术快报》1999年第6期17-18,共2页晓青 
关键词：射频溅射 氩压力 基体温度 氧化锌 薄膜 
用rf感应等离子体溅射制备氮化硼薄膜
《等离子体应用技术快报》1998年第4期9-10,共2页朱笑非 
关键词：射频溅射 等离子体 氮化硼 薄膜制备 
利用ECR等离子体辅助的rf溅射沉积氧化膜
《等离子体应用技术快报》1997年第4期18-19,共2页甘德昌 
关键词：ECR 等离子体 氧化膜沉积 射频溅射 薄膜 
用rf偏压溅射法制备c—BN膜
《等离子体应用技术快报》1996年第8期6-7,共2页张正模 
关键词：射频溅射 氮化硼 薄膜 
He—O2气体的射频磁控管溅射法制备Bi—Sr—Cu—O膜
《等离子体应用技术快报》1996年第7期8-9,共2页晓青 
关键词：超导 薄膜 射频溅射 BSCO 
用不同的含硼靶通过反应性射频与直流溅射制备立方晶氮化硼膜
《等离子体应用技术快报》1996年第7期9-10,共2页周清明 
关键词：氮化硼 薄膜 射频溅射 
ECR等离子体辅助射频溅射SrTiO3薄膜
《等离子体应用技术快报》1994年第12期5-6,共2页乐川 若可 
关键词：ECR 等离子体 射频溅射 薄膜 钛酸锶 
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