集成电路工艺

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制版、光刻、腐蚀与掩模工艺
《电子科技文摘》2006年第5期27-28,共2页
0611613 UV-LIGA双层微齿轮加工工艺研究[刊,中]/张晔//微细加工技术.-2005,(4).-69-75(D) 0611614 一种新型微小等离子体发生器[刊,中]/王海//微细加工技术.-2005,(4).-59-63(D)
关键词:掩模 微细加工技术 集成电路工艺 抗蚀剂 等离子体发生器 敏感元 
电子工艺
《电子科技文摘》2002年第11期25-26,共2页
关键词:电子工艺 掩模 掩膜 蚁群系统 误差检测 会议录 集成电路工艺 最短路径 固体电子学 薄膜淀积 
制版、光刻、腐蚀与掩模工艺
《电子科技文摘》1999年第4期44-44,共1页
Y98-61303-9 9904624IC 生产用平版印刷术的材料推挤限制=Pushing thelimits of lithography for IC production[会,英]/Brunner,T.//1997 IEEE International Electron Devices Meet-ing.—9~13(AG)文章从大量生产这个视角去重新审视...
关键词:平版印刷术 光刻技术 腐蚀 重新审视 技术需要 集成电路工艺 掩模 制版 关键性 视角 
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