各向异性刻蚀

作品数：41被引量：64H指数：4
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相关领域：电子电信更多>>
相关作者：郝一龙殷华湘徐秋霞李永亮毛海央更多>>
相关机构：中国科学院微电子研究所中芯国际集成电路制造(上海)有限公司北京大学上海华虹宏力半导体制造有限公司更多>>
相关期刊：《电子制作》《集成电路应用》《微纳电子技术》《西南大学学报（自然科学版）》更多>>
相关基金：国家自然科学基金上海市卫生系统百名跨世纪优秀学科带头人培养计划航天科技创新基金黑龙江省青年科学基金更多>>
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反应离子刻蚀PMMA的各向异性刻蚀研究被引量：2
《微细加工技术》2002年第4期54-57,共4页黄龙旺 杨春生 丁桂甫 
国家自然科学基金资助项目 (5 0 0 75 0 5 5 )
研究目的是优化Ni掩模PMMARIE的刻蚀参数 ,在氧刻蚀气体中加入表面钝化性气体CHF3 ,以较快的刻蚀速率获得垂直的侧壁和最小的掩模钻蚀。采用平行板结构的反应离子刻蚀机刻蚀 ,研究了刻蚀气压、CHF3 /O2 比率和刻蚀温度对垂直、侧向刻蚀...
关键词：反应离子刻蚀 PMMA 各向异性 RIE 干法刻蚀 
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