光学邻近效应

作品数：34被引量：53H指数：3
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下一代光学掩模制造技术被引量：3
《微电子技术》2000年第6期1-4,共4页谢常青 
尽管其它光刻技术在不断快速发展，然而在０．１３μｍ及０．１３μｍ以下集成电路制造水平上，光学光刻仍然具有强大的生命力。随着光学光刻极限分辨率的不断提高，当代光学掩模制造技术面临着越来越严重的挑战。本文对下一代光学掩模...
关键词：光学光刻 光学邻近效应 移相掩模 光学掩模 制造技术 
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