PROLITH

作品数：8被引量：5H指数：1
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相关领域：电子电信机械工程理学更多>>
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相关机构：中国科学院复旦大学中国科学院微电子研究所中国科学院研究生院更多>>
相关期刊：《微细加工技术》《中国集成电路》《电子工业专用设备》《Journal of Semiconductors》更多>>
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浸没式ArF光刻最新进展被引量：3
《电子工业专用设备》2006年第3期27-35,共9页李艳秋 
国家863项目;973项目（No.2003CB716204.）的资助
简单概述了浸没式ArF的发展历史、特点和面临的科学技术问题,在跟踪报道国内外最新研究进展的同时,介绍前沿光刻技术的研发特点和研究手段,强调协同设计研究的重要地位,并揭示浸没式ArF光刻不是干式ArF光刻的简单移置和延续。
关键词：浸没式ARF光刻 下一代光刻 PROLITH MicroCruiser 分辨率增强 
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