亚半微米

作品数：11被引量：14H指数：2
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亚半微米光刻技术的新动向被引量：1
《半导体情报》1993年第1期49-57,共9页钱小工 
最近几年中提出了几种用于光学光刻的新方法,包括移相掩模技术、斜向照明、环形照明、FLEX和Super-FLEX等,这些方法提高了光学投影光刻的分辨率,并改善了一定特征尺寸下的焦深,期望它们可以将现有的i线步进机的用途扩展到制造最小特征...
关键词：光刻 工艺 半导体器件 
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