掩膜

作品数:693被引量:1262H指数:12
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相关领域:自动化与计算机技术电子电信更多>>
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镀铬层表面微坑阵列PDMS掩膜电解加工研究
《电加工与模具》2024年第4期33-39,共7页刘金玲 张庆良 张磊 曲宁松 
国家自然科学基金创新群体项目(51921003)。
以聚二甲基硅氧烷(PDMS)为掩膜的微细电解加工能高效地加工出群微坑阵列,从而改善表面摩擦学性能,提高零件使用寿命,但因电场边缘效应,得到的微坑阵列尺寸均匀性较差。针对这一现象,采用厚层PDMS模板并利用高压静液进行掩膜电解加工,探...
关键词:掩膜电解加工 镀铬层 微坑阵列 
电化学溶解对掩膜电化学沉积表面质量改进研究
《电加工与模具》2022年第3期26-30,共5页杨炆縚 张彦 韩国峰 蔡康捷 吴传冬 
江苏省六大人才高峰项目(JXQC-009);江苏省研究生实践创新计划项目(SJCX21_0494)。
为解决微纳三维结构的高质量加工难题,提出基于掩膜化学沉积的复合电化学加工技术,通过对比试验和负向脉冲参数优化试验,分析了负向脉冲个数、负向脉冲峰值电流及负向脉冲宽度对微纳三维结构表面粗糙度的影响规律。结果表明:复合电化学...
关键词:掩膜电化学沉积 电化学溶解 表面粗糙度 负向脉冲参数 
微流道模具掩模电解加工多场耦合数值模拟
《电加工与模具》2019年第A01期51-55,58,共6页户亚娜 王续跃 
创新研究群体科学基金资助项目(51621064)
针对医用微流道模具掩膜电解加工技术难题,应用Comsol软件建立多物理场耦合有限元模型,计算得到微流道段内流速分布。通过分析电解液入口流速对氢气气泡率、铁离子浓度和温度的影响,进而分析对电解液电导率的影响。在相同加工参数下,宽...
关键词:微流道模具 掩膜电解加工 多物理场耦合 数值模拟 
金属表面微坑阵列掩膜电化学刻蚀技术研究
《电加工与模具》2015年第2期29-32,37,共5页杜立群 位广彬 杨彤 陈胜利 
国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2012AA040406);国家自然科学基金资助项目(51375077)
采用负胶光刻工艺制备了微坑阵列胶模,通过实验分析了抛光工艺对刻蚀均匀性的影响,解决了微坑阵列刻蚀缺陷的问题。研究了酸洗对基板刻蚀的影响,得出酸洗可改善刻蚀均匀性的结论,并通过调节溶液p H值的方法解决了溶液沉淀的问题。分析...
关键词:UV-LIGA 微坑阵列 电化学刻蚀 酸洗 
微沟槽电解加工试验研究被引量:10
《电加工与模具》2015年第1期21-24,共4页王艳萍 徐文骥 
国家自然科学基金资助项目(90923022)
采用掩膜微细电解加工方法在304不锈钢表面制备微沟槽结构。重点研究了电流密度、加工时间对微沟槽成形质量的影响规律,得到了较优的电流密度及加工时间,获得了宽度为200~250μm、深度为60~90μm的规整微沟槽结构。对比分析了Na NO3+H2...
关键词:掩膜微细电解加工 304不锈钢 微沟槽 电解液 
基于光致抗蚀干膜的掩膜制备及其应用研究
《电加工与模具》2014年第5期24-27,40,共5页曾永彬 蔡伟伟 李寒松 陈晓磊 张西方 
广东联合基金重点项目(U1134003);航空科学基金资助项目(2012ZE52068)
在传统工艺流程中,必须先将干膜贴于工件表面,然后进行光刻,但干膜不可重复使用。现提出一种新型干膜光刻工艺流程,在干膜贴于工件表面之前,先对干膜单独进行光刻试验研究。基于该新型工艺流程,研究了杜邦干膜GPM220的曝光及显影特性。...
关键词:光致抗蚀剂(干膜) 曝光 显影 掩膜电解 
微细掩膜电解加工的孤岛有限元仿真研究被引量:1
《电加工与模具》2014年第4期20-23,共4页唐仪 黄志刚 郭钟宁 黄红光 何长运 
国家自然科学基金资助项目(11172072);国家自然科学基金重点资助项目(U1134003)
在微细掩膜电解加工初期,被加工表面会形成孤岛结构,不利于加工出形状、精度良好的浅表面微结构,故减小电解加工过程中的孤岛结构很有必要。采用有限元方法建立了微细掩膜电解加工的数学模型,并利用该模型分析掩膜厚度和加工间隙对孤岛...
关键词:孤岛 电化学加工 电流密度 微结构 
金属薄板微小群孔掩膜电解加工技术研究被引量:8
《电加工与模具》2008年第3期37-39,63,共4页刘建 朱荻 曲宁松 李寒松 
国家863高技术研究发展计划资助项目(2006AA04Z321);江苏省自然科学基金资助项目(BK2007530)
介绍了掩膜电解加工微小群孔的技术,深入研究了掩膜厚度、加工电压、电解液种类等参数对微小群孔加工效果的影响。通过对这些参数的优化,提高了微小群孔结构的均匀性和微孔的加工精度。
关键词:微小群孔 掩膜 电解加工 
光刻胶掩膜微细电化学加工参数的试验研究被引量:12
《电加工与模具》2004年第6期17-19,共3页李嘉珩 马保吉 范植坚 
对光刻胶掩膜微细电化学加工参数进行了试验分析研究 ,发现光刻胶厚度、开口角度、脉冲电源频率、脉宽及电解液配方对加工质量都有影响 ,在此基础上提出改善加工质量的可行性方案。
关键词:微细电化学加工 加工质量 开口 厚度 角度 试验分析 电解液 光刻胶 掩膜 脉宽 
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