云南高校图书馆联盟文献共享服务平台- HFO2/SIO2

HFO2/SIO2: 作品数：10被引量：21H指数：2; 导出分析报告; 相关领域：电子电信理学更多>>; 相关作者：李笑陶春先邵建达李大伟赵元安更多>>; 相关机构：中国科学院上海光学精密机械研究所四川大学中国科学院研究生院长春理工大学更多>>; 相关期刊：《激光与光电子学进展》《强激光与粒子束》《中国学术期刊文摘》《Chinese Physics B》更多>>; 相关基金：国家自然科学基金中国工程物理研究院科学技术发展基金更多>>

Laser-induced damage threshold in HfO_2/SiO_2 multilayer films irradiated by β-ray被引量：1: 《Chinese Physics B》2019年第2期294-298,共5页Mei-Hua Fang Peng-Yu Tian Mao-Dong Zhu Hong-Ji Qi Tao Fei Jin-Peng Lv Hui-Ping Liu; Project supported by the National Natural Science Foundation of China(Grant No.11405085);the Jiangsu Provincial Natural Science Fund,China(Grant No.BK20130789); Post-processing can effectively improve the resistance to laser damage in multilayer films used in a high power laser system. In this work, HfO_2/SiO_2 multilayer films are prepared by e-beam evaporation and then β-r...; 关键词：Β-RAY IRRADIATION HFO2/SIO2 multilayer film residual stress LASER-INDUCED damage threshold

Multiscale analysis of single- and multiple-pulse laser-induced damages in HfO_2/SiO_2 multilayer dielectric films at 532 nm被引量：1: 《Chinese Optics Letters》2015年第9期53-57,共5页刘文文魏朝阳易葵邵建达; supported by the National Natural Science Foundation of China under Grant Nos.11104293and 61308021; Nanosecond single- and multiple-pulse laser damage studies on HfOffSiO2 high-reflection （HR） coatings are performed at 532 nm. For single-pulse irradiation, the damage is attributed to the defects and the electric i...; 关键词：Multiscale analysis of single and multiple-pulse laser-induced damages in HfO2/SiO2 multilayer dielectric films at 532 nm

HfO_2/SiO_2增透膜激光诱导损伤形貌分析被引量：1: 《广州化工》2015年第4期90-92,共3页罗康蒲云体乔曌刘志超罗晋朱基亮马平; 用电子束蒸发法制备了Hf O2/Si O2增透膜样品,并进行退火。测量未退火样品与退火样品的透射光谱,发现退火样品的光谱明显向短波方向移动,原因是退火后薄膜中的吸附水被去除。使用Nd:YAG激光器在"S-on-1"模式下对样品进行了激光诱导损伤...; 关键词：增透膜激光诱导损伤损伤形貌 HFO2/SIO2

Mechanisms of near-ultraviolet, nanosecond-pulse-laser damage in HfO2/SiO2- based multilayer coatings被引量：2: 《Chinese Optics Letters》2013年第13期169-174,共6页S. Papernov; The possible role of metal clusters and electronic defects in the near-ultraviolet, nanosecond-pulse-laser damage in HfO2/SiO2-pair - based coatings is analyzed using experimental results on absorption and damage in H...

Effect of standing-wave field distribution on femosecond laser-induced damage of HfO_2/SiO_2 mirror coating被引量：2: 《Chinese Optics Letters》2011年第8期94-97,共4页陈顺利赵元安贺洪波邵建达; Single-pulse and multi-pulse damage behaviors of ＂standard＂（with A/4 stack structure） and ＂modified＂（with reduced standing-wave field） HfO2/SiO2 mirror coatings are investigated using a commercial 50-fs, 800...; 关键词：SIO Effect of standing-wave field distribution on femosecond laser-induced damage of HfO2/SiO2 mirror coating wave

1064nm与532nm激光对电子束蒸发制备的HfO2／SiO2高反膜损伤比较被引量：10: 《强激光与粒子束》2008年第9期1457-1460,共4页李大伟陶春先李笑赵元安邵建达; 研究了电子束蒸发制备的HfO2/SiO2高反膜在1 064 nm与532 nm激光辐照下的损伤行为。基频激光辐照时损伤形貌主要为节瘤缺陷喷溅留下的锥形坑,当能量密度较大时出现分层剥落;二倍频激光损伤主要是由电子缺陷引起的平底坑,辐照脉冲能量密...; 关键词：光学薄膜激光损伤电子束蒸发电子缺陷

高分子化学: 《中国学术期刊文摘》2007年第1期80-82,共3页; RDF法对非晶态聚醚砜共聚物的近程有序结构研究;具有辐射聚合能力的HfO2／SiO2溶胶-凝胶玻璃的制备及其X射线光刻性能研究;利用光于探测分析法研究超微细材料表面特征;含类芪生色团聚合物的合成及全光开关效应;; 关键词：高分子化学 HFO2/SIO2 溶胶-凝胶玻璃全光开关效应 X射线光刻有序结构辐射聚合表面特征

具有辐射聚合能力的HfO_2/SiO_2溶胶-凝胶玻璃的制备及其X射线光刻性能研究被引量：2: 《高等学校化学学报》2006年第7期1376-1379,共4页赵福华谢永军许素莲刘刚付绍军; 国家自然科学基金(批准号:10402039和10272098)资助; 采用溶胶-凝胶方法制备了一种新颖的具有辐射聚合能力的H fO2/S iO2凝胶薄膜.并采用X射线作曝光光源对薄膜进行了曝光,通过FTIR的测试,分析了薄膜曝光前后的结构变化.结果表明,该材料具有良好的辐射聚合能力.采用XPS分析了薄膜的成分,...; 关键词：HFO2/SIO2 溶胶-凝胶辐射聚合光栅

真空制程压力与环测温度对HfO2/SiO2光学薄膜的影响: 《真空科技》蔡朝坤(Chao-Kun Tsai); 探讨不同真空制程压力环境影响下，制程压力对HfO2和SiO2薄膜溅镀速率的影响以及在300-400 nm紫外光波段之薄膜光学性质与表面微结构之差异，并制镀单、双介面抗反射膜，探讨不同环测温度条件薄膜穿透率之差异性。; 关键词：濺鍍光學薄膜

HfO2／SiO2薄膜缺陷及激光损伤特性分析: 《激光与光电子学进展》2001年第9期54-54,共1页胡建平陈梅邱服民马平; 对光学中心镀制的HfO2/SiO2高反、增透和偏振膜等,用台阶仪、Normaski和原子力显微镜详细分析了薄膜表面的微结构缺陷如孔洞,划痕和节瘤的形状,以及缺陷对应的激光损伤图貌.原子力显微图貌显示,节瘤缺陷表现为薄膜表面突起光滑圆丘,直...; 关键词：薄膜缺陷激光损伤特性二氧化硅

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