云南高校图书馆联盟文献共享服务平台- HMDSO

HMDSO: 作品数：11被引量：43H指数：4; 导出分析报告; 相关领域：一般工业技术理学更多>>; 相关作者：郑阔海杨生胜周美丽陈强詹自力更多>>; 相关机构：南京工业大学国网江苏省电力公司徐州供电公司北京印刷学院中国科学院更多>>; 相关期刊：《包装工程》《高电压技术》《包装世界》《Journal of Thermal Science》更多>>; 相关基金：国家自然科学基金江苏省“六大人才高峰”高层次人才项目湖南省科技计划项目更多>>

不同类型电源激励下HMDSO添加比例对Ar介质阻挡放电特性的影响被引量：4: 《电工技术学报》2021年第15期3135-3146,共12页张龙龙崔行磊刘峰方志; 国家自然科学基金(51977104,52037004);江苏省六大人才高峰项目(KTHY-020)资助。; 绝缘材料表面湿闪、污闪会对电力系统安全带来隐患。利用低温等离子进行疏水改性,可降低水滴在绝缘材料表面的浸润程度,抑制其吸附污渍、粉尘,进而提高耐湿闪、污闪等沿面耐压能力。为此,可在放电气体中添加疏水反应媒质,在材料表面引...; 关键词：大气压介质阻挡放电高频激励脉冲激励疏水改性放电特性

HMDSO含量对纳秒脉冲激励Ar/HMDSO射流放电特性的影响被引量：4: 《电工技术学报》2021年第13期2675-2683,2696,共10页李劲卓刘峰方志; 国家自然科学基金(51677083,52037004);江苏省“六大人才高峰”创新人才团队项目(TD-JNHB-006)。; 通过在放电气体中添加含Si媒质可在材料表面引入含Si基团,能有效提高等离子体憎水改性效果,增强材料沿面耐压能力。该文选取六甲基二硅醚(HMDSO)为含Si媒质,采用纳秒脉冲激励在Ar/HMDSO中产生射流放电,通过电压电流波形测量等电气特性,...; 关键词：等离子体射流 Ar/HMDSO 纳秒脉冲憎水性放电特性表面改性

HMDSO添加对大气压Ar等离子体射流阵列放电特性的影响被引量：18: 《高电压技术》2017年第6期1775-1783,共9页方志张波周若瑜郝丽丽侯永全; 国家自然科学基金(51377075;51677083);江苏省"六大人才高峰"项目 (2014-XNY-006)~~; 大气压等离子体射流阵列是适合大面积复杂材料表面处理的等离子体形式。针对材料表面处理对大面积等离子体源的需求,在实现大气压一维Ar等离子体射流阵列的基础上,在工作气体中添加六甲基二硅醚(HMDSO)来获得含憎水性成分的射流阵列放电...; 关键词：等离子体射流射流阵列含硅成分憎水性放电特性

Deposition of organosilicone thin film from hexamethyldisiloxane(HMDSO)with 50kHz/33MHz dual-frequency atmospheric-pressure plasma jet被引量：1: 《Plasma Science and Technology》2017年第4期92-98,共7页李娇娇袁强华常小伟王勇殷桂琴董晨钟; supported by National Natural Science Foundation of China(Grant No.11165012,Grant No. 11665012);the Project of the Natural Science Foundation of GanSu(145RJZA159); The deposition of organosilicone thin films from hexamethyldisiloxane（HMDSO） by using a dual-frequency （50 kHz/33 MHz） atmospheric-pressure micro-plasma jet with an admixture of a small volume of HMDSO and Ar was ...; 关键词：organosilicone thin film HEXAMETHYLDISILOXANE dual-frequency atmospheric-pressureplasma jet

TMCS/HMDSO混合改性剂对常压制备SiO_2气凝胶的影响被引量：3: 《材料导报》2013年第4期75-78,共4页邓凌峰左小荣卢斌张丁日周强; 湖南省科技计划重点项目(06GK2022); 以TEOS为硅源,TMCS/HMDSO为混合表面改性剂,采用酸碱两步催化溶胶-凝胶法和常压干燥法制备疏水性SiO2气凝胶,并借助BET、SEM、FT-IR等测试手段对样品进行表征。结果表明:TMCS/HMDSO混合改性剂的改性效果优于单一改性剂,当TMCS体积分数...; 关键词：SIO2气凝胶溶胶-凝胶法常压干燥法混合改性

硅氧烷原子氧防护膜工艺及防护性能研究被引量：6: 《航天器环境工程》2010年第6期751-755,674,共5页郑阔海杨生胜李中华王敬宜赵琳; 原子氧是对低地球轨道航天器构成重要影响的空间环境因素之一,严重影响着航天器在轨的安全运行。文章重点介绍了制备工艺对六甲基二硅氧烷原子氧防护膜结构及性能的影响,分析了防护膜的聚合原理,并对其结构、成分进行了测试分析,从而获...; 关键词：原子氧六甲基二硅氧烷(hmdso) 防护膜等离子体聚合膜

单体对制备SiOx高阻隔包装薄膜的影响被引量：1: 《包装世界》2009年第3期14-15,共2页周美丽; 本文论述在食品包装保质保鲜方面,对普通包装基材PET、BOPP等表面采用等离子体化学气沉积一层纳米级透明的SiOx层高阻隔层。实验分别以四甲基二硅氧烷(TMDSO)和六甲基二硅氧烷(HMDSO)为单体、氧气为反应气体、氩气为电离气体,在载玻片...; 关键词：四甲基二硅氧烷(TMDSO) 六甲基二硅氧烷(HMDSO) 高阻隔性薄膜低温等离子体

HMDSO/H_2等离子体化学气相沉积非晶包覆纳米α-SiC薄膜的实验研究被引量：1: 《真空科学与技术学报》2006年第4期326-329,共4页颜官超丁斯晔朱晓东周海洋温晓辉丁芳; 国家自然科学基金(No.50472010); 本文利用六甲基二硅氧烷(HMDSO)作为先驱物质、氢气为稀释气体,进行了等离子体化学气相沉积碳硅薄膜的实验研究。运用X射线衍射、拉曼光谱、扫描电子显微镜和X射线光电子能谱对薄膜的成份和结构进行了分析。结果表明,在生长温度为750℃...; 关键词：α-SiC 纳米 HMDSO

聚合单体对制备SiO_x高阻隔性薄膜性能的影响被引量：4: 《包装工程》2006年第6期37-39,共3页周美丽陈强岳蕾葛袁静; 北京市教委基金(KW200500001);北京印刷学院引进人才基金; 论述在食品包装保质保鲜方面,对普通包装基材PET、BOPP等表面采用等离子体化学气沉积一层纳米级透明的SiOx层高阻隔层。实验采用13.56MHz的射频等离子体装置,分别以四甲基二硅氧烷(TMDSO)和六甲基二硅氧烷(HMDSO)为单体、氧气为反应气...; 关键词：PECVD 四甲基二硅氧烷(TMDSO) 六甲基二硅氧烷(HMDSO) 高阻隔性薄膜

The Formation of Nano-Size SiO_2 Thin Film on an Aluminum Plate with Hexamethyldisilazane (HMDSA) and Hexamethyldisiloxane (HMDSO)被引量：3: 《Journal of Thermal Science》2003年第1期89-96,共8页H.K.Ma E.Zhao K.M.Chung C.L.Yeh; This research was funded by the National Science Council (NSC 90-2212-E- 212-015); This study is using HMDSA (C6H19NSi2) or HMDSO (C6H18OSi2) vapor into C3H8/air premixed flames to form SiO2 thin film on the surface of an aluminum plate. With the addition of HMDSO or HMDSA to premixed flames, an ora...; 关键词：nano size thin film SiO2.

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