刘波

作品数：21被引量：36H指数：3
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供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
发文主题：相变光盘光学常数热固定C_性能研究更多>>
发文领域：理学化学工程机械工程自动化与计算机技术更多>>
发文期刊：《激光与红外》《光子学报》《中国激光》《物理》更多>>
所获基金：国家自然科学基金上海市科学技术发展基金更多>>
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氧杂质及热处理过程对Ge-Sb-Te薄膜的光学性质和晶体结构的影响
《中国激光》2003年第12期1111-1115,共5页顾四朋 侯立松 刘波 陈静 
国家自然科学基金 (5 9832 0 6 0 )重点资助项目
研究了氧掺杂Ge Sb Te磁控溅射相变薄膜在 4 0 0～ 80 0nm区域的光学常数 (n ,k) ,发现不同氧成分薄膜的光学性质有较大差别 ,经过热处理后薄膜的光学性质也发生了较大变化。由热处理前后薄膜的X射线衍射 (XRD)发现 ,经过退火处理后薄...
关键词：薄膜物理学 Ge-Sb-Te薄膜 氧杂质 光学常数 X射线衍射 
相变光盘介电薄膜ZnS-SiO_2 的微结构和光学特性(英文)被引量：3
《光子学报》2003年第7期834-836,共3页刘波 阮昊 干福熹 
SupportedbyShanghaiAppliedPhysicsResearchCenter(99JC14 0 0 9);NationalScienceFoundationofChina(5 9832 0 6 0 )
采用射频磁控溅射法制备了ZnS SiO2 介电薄膜 ,利用透射电镜和椭偏仪研究了溅射条件对ZnS SiO2薄膜微结构和折射率n的影响 研究表明 ,ZnS SiO2 薄膜中存在微小晶粒 ,大小为 2～ 10nm的ZnS颗粒分布在SiO2 基体中 ,当溅射功率和溅射气压...
关键词：ZnS—SiO2薄膜 微结构 折射率 射频磁控溅射法 透射电镜 椭偏仪 
蓝光相变光盘的多层膜结构设计被引量：1
《光学学报》2003年第12期1513-1517,共5页刘波 阮昊 干福熹 
国家 8 63计划 (2 0 0 1AA3 13 0 10 );上海市科学技术发展基金 (0 12 2 610 68)资助课题
为了使光盘获得优良的记录 /读出性能并能够长期稳定地使用 ,必须优化设计相变光盘的多层膜结构。采用自行设计的模拟分析相变光盘读出过程设计软件 ,从光学角度出发模拟计算了蓝光 (40 5nm)相变光盘的膜层结构 ,研究了多层膜系的反射...
关键词：薄膜光学 相变光盘 多层膜结构 光学记录材料 反射率 槽深 膜层匹配 
高密度双层光盘研究进展
《激光与红外》2003年第3期167-171,共5页刘波 干福熹 
国家自然科学基金资助(59832060)
综述了高密度双层光盘的研究进展,介绍了其记录原理、记录材料和记录性能,重点讨论了高密度双层光盘所面临的问题及其解决方法,最后提出了我国超高密度光盘存储技术发展的研究思路。
关键词：双层光盘 高密度 记录原理 记录材料 记录性能 光盘存储技术 
相变光盘介电层ZnS-SiO_2薄膜的性能研究被引量：3
《无机材料学报》2003年第1期190-194,共5页刘波 阮昊 干福熹 
上海应用物理中心和国家自然科学基金(59832060)
利用AFM、XRD、TEM、紫外可见光谱仪和椭偏仪等多种研究手段研究了ZnS-SiO2薄膜的性能.研究表明,沉积态ZnS-SiO2薄膜为非晶态,表现为层核生长型(Straski-Krastanov型)结构,表面很平滑,其中包含着大小为2-10nm的微小晶粒;ZnS-SiO2薄膜的...
关键词：ZnS-SiO2薄膜 性能 介电层 相变光盘 硫化锌 二氧化硅 
新一代高密度数字多用光盘(HD-DVD)研究进展被引量：1
《物理》2002年第12期784-788,共5页刘波 阮昊 干福熹 
上海应用物理中心和国家自然科学基金 (批准号 :5 983 2 0 60 )资助项目
文章综述了新一代高密度数字多用光盘的研究进展 ,介绍了多种新型蓝绿光高密度可录和可擦重写光盘存储材料 ,讨论了高密度数字多用光盘所面临的问题及其解决方法 ,最后提出了中国超高密度光盘存储技术发展的研究思路 .
关键词：HD-DVD 高密度数字多用光盘 数据传输速率 扰动 串扰/串擦 光盘存储技术 
光盘反射层纳米Al膜性能研究被引量：3
《光电子．激光》2002年第10期987-990,共4页刘波 阮昊 干福熹 
国家自然科学基金资助项目 (5 983 0 60 ) ;上海应用物理中心资助项目
利用原子力显微镜 (AFM)和椭圆偏振仪研究了溅射条件对纳米 Al薄膜性能的影响。研究表明 ,随溅射 Ar气压的增大 ,纳米 Al膜的表面粗糙度增加 ,折射率降低 ,反射率减小 ,这与薄膜的结构变化密切相关 ;随溅射功率的增大 ,纳米 Al膜的表面...
关键词：光盘 反射层 纳料Al膜 溅射条件 光学常数 铝膜 
初始化条件对Ge_2Sb_2Te_5相变光盘反射率和载噪比的影响被引量：4
《中国激光》2002年第7期643-646,共4页刘波 阮昊 干福熹 
国家自然科学基金重大项目 (5 9832 0 6 0 )
Ge2 Sb2 Te5相变光盘的反射率对比度和载噪比受初始化条件影响很大。研究表明 ,反射率对比度在转速比较低时随功率增加而增大 ,而转速较高时随功率增加而减小 ;反射率对比度基本随转速增加而减小 ,不同波长处的反射率对比度相差比较大 ...
关键词：Ge2Sb2Te5 相变光盘 反射率 锗锑碲三元化合物 
掺杂氧的Ge-Sb-Te相变薄膜的光学性质被引量：4
《光学学报》2002年第9期1137-1140,共4页顾四朋 侯立松 刘波 陈静 
国家自然科学基金 (5 9832 0 6 0 )资助课题
研究了氧掺入Ge Sb Te射频溅射相变薄膜在 40 0nm～ 80 0nm区域的光学常数 (n ,κ)和反射、透射光谱 ,发现适当的氧掺入能大大增加退火前后反射率对比度 ,因此可通过氧掺入改良Ge Sb
关键词：相变薄膜 Ge-Sb-Te薄膜 氧掺杂 光学性质 光存储 
激光致晶态Ge_2Sb_2Te_5相变介质的光学常数被引量：1
《Journal of Semiconductors》2002年第5期479-483,共5页刘波 阮昊 干福熹 
上海应用物理中心和国家自然科学基金 ( No.5 9832 0 60 )资助项目~~
利用椭偏仪和光谱仪研究了结晶程度对 Ge2 Sb2 Te5相变薄膜光学常数的影响 .当初始化仪转速固定时 ,随激光功率的增加 ,折射率基本随之减小 ,消光系数逐渐增大 ,透过率逐渐减小 ;当激光功率固定时 ,随转速的增大 ,折射率也随之增大 ,消...
关键词：Ge2Sb2Te5 光学常数 相变薄膜 折射率 消光系数 光存储介质 
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